[发明专利]低挥发的活性恶臭消除剂及其用法在审

专利信息
申请号: 201710825966.2 申请日: 2012-10-19
公开(公告)号: CN107510858A 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: J·G·L·普鲁伊特;佐佐木隆;黄霄 申请(专利权)人: 国际香料和香精公司
主分类号: A61L9/01 分类号: A61L9/01;A61L9/00;A61L101/46
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 胡嘉倩
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 挥发 活性 恶臭 消除 及其 用法
【权利要求书】:

1.一种包含恶臭消除剂化合物的消费品,工业品或纺织品,所述恶臭消除剂化合物包括共价连接到以下物质的α-酮部分:

(a)聚合物,其包括烯烃、多糖、多胺、聚丙烯酸酯、具有OH或NH2端基的聚环氧烷,或其嵌段或无规共聚物;

(b)低聚物,其包括低聚糖或低聚烷烃;

(c)表面活性剂,其包括基于环氧乙烷,环氧丙烷或环氧丁烷的二嵌段或三嵌段共聚物,或泊洛沙胺;或

(d)固体表面,其包括硅石或者粘土表面,

其中所述的α-酮部分包括能够与恶臭反应的酮。

2.如权利要求1所述的消费品,工业品或纺织品,其特征在于,所述的α-酮部分包括乙酰丙酸,乙酰乙酸,丙酮酸,α-酮戊二酸,α-丁酮酸,α-酮异己酸,或α-酮基戊酸。

3.如权利要求1所述的消费品,工业品或纺织品,其特征在于,所述恶臭消除剂化合物具有如下结构:

其中

X表示O,N或C;

n表示0或更大的整数;和

R为:

(a)聚合物,其包括烯烃、多糖、多胺、聚丙烯酸酯、具有OH或NH2端基的聚环氧烷,或其嵌段或无规共聚物;

(b)低聚物,其包括低聚糖或低聚烷烃;

(c)表面活性剂,其包括基于环氧乙烷,环氧丙烷或环氧丁烷的二嵌段或三嵌段共聚物,或泊洛沙胺;或

(d)固体表面,其包括硅石或者粘土表面。

4.如权利要求3所述的消费品,工业品或纺织品,其特征在于,X是NH,n是0-2的整数,R是环氧乙烷和环氧丙烷的共聚物。

5.一种生产恶臭消除剂化合物的方法,其包括以共价键方式将α-酮部分连接到以下物质:

(a)聚合物,其包括烯烃、多糖、多胺、聚丙烯酸酯、具有OH或NH2端基的聚环氧烷,或其嵌段或无规共聚物;

(b)低聚物,其包括低聚糖或低聚烷烃;

(c)表面活性剂;或

(d)固体表面,其包括硅石或者粘土表面。

6.一种恶臭消除剂化合物,其包括共价连接到以下物质的α-酮部分:

(a)聚合物,其包括烯烃、多糖、多胺、聚丙烯酸酯、具有OH或NH2端基的聚环氧烷,或其嵌段或无规共聚物;

(b)低聚物,其包括低聚糖或低聚烷烃;

(c)表面活性剂,其包括基于环氧乙烷,环氧丙烷或环氧丁烷的二嵌段或三嵌段共聚物,或泊洛沙胺;或

(d)固体表面,其包括硅石或者粘土表面,

其中所述的α-酮部分包括能够与恶臭反应的酮。

7.如权利要求6所述的恶臭消除剂化合物,其特征在于,所述的α-酮部分包括乙酰丙酸,乙酰乙酸,丙酮酸,α-酮戊二酸,α-丁酮酸,α-酮异己酸,或α-酮基戊酸。

8.如权利要求6所述的恶臭消除剂化合物,其特征在于,所述恶臭消除剂化合物具有如下结构:

其中

X表示O,N或C;

n表示0或更大的整数;和

R为:

(a)聚合物,其包括烯烃、多糖、多胺、聚丙烯酸酯、具有OH或NH2端基的聚环氧烷,或其嵌段或无规共聚物;

(b)低聚物,其包括低聚糖或低聚烷烃;

(c)表面活性剂,其包括基于环氧乙烷,环氧丙烷或环氧丁烷的二嵌段或三嵌段共聚物,或泊洛沙胺;或

(d)固体表面,其包括硅石或者粘土表面。

9.如权利要求8所述的恶臭消除剂化合物,其特征在于,X是NH,n是0-2的整数,R是环氧乙烷和环氧丙烷的共聚物。

10.一种消除消费品,工业品或纺织品或其周围环境的胺型恶臭的方法,其包括向产品中添加权利要求6所述的恶臭消除剂化合物以及消除消费品,工业品或纺织品中存在的胺型恶臭的步骤。

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