[发明专利]含有烃类的化妆用制剂在审
| 申请号： | 201710826666.6 | 申请日： | 2008-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN107595654A | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·迪尔克;乔基姆·里克特 | 申请（专利权）人： | 考格尼斯知识产权管理有限责任公司 |
| 主分类号： | A61K8/31 | 分类号： | A61K8/31;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 彭立兵,林柏楠 |
| 地址： | 德国杜*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含有 化妆 制剂 | ||
1.化妆用和/或药用制剂，含有0.1-80重量％的选自C7、C9、C11、C13、C15、C17、C19、C21和C23的烃类。
2.根据权利要求1所述的制剂，其中，所述制剂含有直链烃类。
3.根据权利要求1和/或2所述的制剂，其中，所述制剂含有饱和烃类。
4.根据权利要求1～3中至少一项所述的制剂，其中，所述烃类选自正庚烷、正壬烷、正十一烷、正十三烷、正十五烷、正十七烷、正十九烷、正二十一烷和正二十三烷。
5.根据权利要求1～4中至少一项所述的化妆用和/或药用制剂，其中，该化妆用和/或药用制剂含有至少一种止汗剂活性物质/除臭剂活性物质。
6.根据权利要求1～5中至少一项所述的化妆用和/或药用制剂，其中，所述化妆用和/或药用制剂含有至少一种防UV光过滤剂。
7.根据权利要求1～6中至少一项所述的化妆用和/或药用制剂，其中，所述化妆用和/或药用制剂含有至少一种自晒黑剂。
8.根据权利要求1～7中至少一项所述的化妆用和/或药用制剂，其中，所述化妆用和/或药用制剂含有至少一种颜料和/或着色剂。
9.根据权利要求1～8中至少一项所述的化妆用和/或药用制剂，其中，该化妆用和/或药用制剂含有至少一种乳化剂和/或表面活性剂和/或蜡组分和/或聚合物和/或其它油体。
10.选自C7、C9、C11、C13、C15、C17、C19、C21和C23的烃类在化妆用和/或药用制剂中的用途，特别是作为油体和/或分散剂的用途。
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