[发明专利]微影图案化的方法

权利要求书

1.一种微影图案化的方法，包括：

形成一光阻层于一基底上方，其中该光阻层包括一含金属化学品；

对该光阻层实行一曝光工艺；及

使用一第一显影剂对该光阻层实行一第一显影工艺，从而形成一图案化光阻层，其中该第一显影剂包括一第一溶剂及一化学添加剂，以移除由该含金属化学品所产生的金属残余物，其中该第一溶剂包括一有机溶剂，该有机溶剂具有重量百分比至少为该第一显影剂重量的60％，并且该化学添加剂系选自由以下所组成的群组：酸、碱及螯合物。

2.如权利要求1所述的方法，更包括使用不同于该第一显影剂的一第二显影剂以对该光阻层实行一第二显影工艺。

3.如权利要求2所述的方法，其中

实行该第一显影工艺包括：在涂覆该第一显影剂至该光阻层之前，加热该第一显影剂至一第一温度；及

实行该第二显影工艺包括：涂覆该第二显影剂，且该第二显影剂具有低于该第一温度之一第二温度。

4.如权利要求3所述的方法，其中实行该第一显影工艺包括：加热该第一显影剂至该第一温度，其中该第一温度高于室温且低于75℃。

5.如权利要求2所述的方法，其中在该第二显影工艺之前实行该第一显影工艺。

6.如权利要求2所述的方法，其中在该第二显影工艺之后实行该第一显影工艺。

7.如权利要求2所述的方法，其中该第二显影工艺包括一第二溶剂且不含有添加剂。

8.如权利要求7所述的方法，其中该有机溶剂被设计为具有以下范围的Hansen溶解度参数：18ΔD3，7ΔP1及7ΔH1。

9.如权利要求8所述的方法，其中该第一溶剂包括一有机溶剂，该有机溶剂系选自由以下所组成之群组：乙酸正丁酯(n-Butyl acetate)、甲基正戊基酮(Methyl n-AmylKetone)、己烷、庚烷或乙酸戊酯或上述的组合。

10.如权利要求7所述的方法，其中该第一显影剂中之该化学添加剂具有介于0.001w％至30w％的重量百分比。

11.如权利要求10所述的方法，其中

该化学添加剂中的该酸包括有机酸，该有机酸系选自由以下所组成的群组：乙二酸(ethanedioic acid)、甲酸(methanoic acid)、2-羟基丙酸(2-hydroxypropanoic acid)、2-羟基丁二酸(2-hydroxybutanedioic acid)、柠檬酸(Citric acid)、尿酸(Uric acid)、三氟甲磺酸(Trifluoromethanesulfonic acid)、苯磺酸(Benzenesulfonic acid)、乙磺酸(ethanesulfonic acid)、甲磺酸(methanesulfonic acid)、草酸二水合物(Oxalic aciddihydrate)、马来酸(Maleic acid)及上述的组合；及

该有机酸调节为具有对数常数pKa，其中pKa的范围为-11pKa4。

12.如权利要求10所述的方法，其中

该化学添加剂中的该碱包括有机碱，其该有机碱系选自由以下所组成的群组：单乙醇胺(Monoethanolamine)、单异丙醇胺(Monoisopropanolamine)、2-氨基-2-甲基-1-丙醇(2-Amino-2-methyl-1-propanol)、1氢-苯并三唑(1H-Benzotriazole)、1,2,4-三唑(1,2,4-Triazole)、1,8-二氮杂双环十一碳-7-烯(1,8-Diazabicycloundec-7-ene)及上述的组合；及

该有机碱调节为具有对数常数pKa，其中pKa的范围为40pKa9。