[发明专利]XRD样品台有效

专利信息
申请号: 201710831413.8 申请日: 2017-09-15
公开(公告)号: CN107643306B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 孙杨;袁震 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: G01N23/20008 分类号: G01N23/20008
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 李健;王亚男
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: xrd 样品
【说明书】:

发明涉及XRD检测领域,公开了一种XRD样品台,所述XRD样品台包括用于承载待测样品(17)的支撑台(10)以及与所述支撑台(10)密封连接且罩在所述待测样品(17)的外部的密封罩(11),其中,所述密封罩(11)上开设有第一开口和第二开口,所述第一开口上密封地覆盖有供用于照射所述待测样品(17)的X射线射入的第一透明膜(12),所述第二开口上密封地覆盖有供所述X射线照射所述待测样品(17)后产生的特征X射线射出的第二透明膜(13)。该XRD样品台能够减少进行XRD检测的待测样品暴露于空气中的时间,提高了检测结果的准确性。

技术领域

本发明涉及XRD检测领域,具体地涉及一种XRD样品台。

背景技术

X-ray diffraction(简称XRD)即X射线衍射,通过对材料进行X射线衍射,分析其衍射图谱,获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。X射线是一种波长很短(约为20~0.06埃)的电磁波,能穿透一定厚度的物质,并能使荧光物质发光、照相乳胶感光、气体电离。在用电子束轰击金属“靶”产生的X射线中,包含与靶中各种元素对应的具有特定波长的X射线,称为特征(或标识)X射线。

XRD是对固体材料进行最有力、最快捷的分析方法之一,它可对单晶、多晶和非晶样品进行结构参数分析,例如物相定性定量分析、衍射谱的指标化、点阵参数测定、粉末衍射图谱拟合修正晶体结构、残余应力测定、织构分析、结晶度测定、薄膜的厚度和密度分析、表面和界面粗糙度及层序分析以及高分辨衍射测定单晶外延膜结构特征等。以多晶X射线衍射为例,多晶X射线衍射是指用X射线衍射法研究多晶样品的成分和结构的一种实验方法,也称粉末法,其中,多晶是指由无数微细晶粒组成的细粉状样品或块状样品。多晶X射线衍射技术因其无损样品、无污染、快速、精度高等优点不仅被用于化学、物理、材料、地质、生物等基础学科,在诸如能源、环保、公安司法、纺织、矿产、陶瓷、医药、食品等工业领域也被广泛地作为检测手段加以应用。

在常规XRD的测试分析中,由于待测试的样品被放置于呈敞开式平台的样品台,因此整个测试过程中,待测试样品基本上都裸露在空气中,这样,易于出现干扰峰,对于待测样品尤其是对于空气较为敏感的待测样品的特征峰干扰较大,使得检测结果误差较大。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术存在的进行XRD检测的待测样品基本都裸露于空气中从而影响检测结果的准确性的问题,提供一种XRD样品台,该XRD样品台能够减少进行XRD检测的待测样品暴露于空气中的时间,提高了检测结果的准确性。

为了实现上述目的,本发明一方面提供一种XRD样品台,所述XRD样品台包括用于承载待测样品的支撑台以及与所述支撑台密封连接且罩在所述待测样品的外部的密封罩,其中,所述密封罩上开设有第一开口和第二开口,所述第一开口上密封地覆盖有供用于照射所述待测样品的X射线射入的第一透明膜,所述第二开口上密封地覆盖有供所述X射线照射所述待测样品后产生的特征X射线射出的第二透明膜。

优选地,所述密封罩包括相对且间隔设置的一对弧形板以及扣合于一对所述弧形板的弧形边的弧形盖,所述第一开口和所述第二开口均设置在所述弧形盖上。

优选地,所述第一透明膜和所述第二透明膜均呈弧形,和/或所述弧形盖和所述弧形板之间设置有密封层。

优选地,所述弧形盖由第一弧形盖和第二弧形盖拼合形成,其中,所述第一弧形盖和所述第二弧形盖均由拼合处向所述弧形板的弧形边的底侧延伸,所述第一开口和所述第二开口中的一者开设于所述第一弧形盖,另一者开设于所述第二弧形盖。

优选地,所述第一弧形盖和所述第二弧形盖呈对称结构,并且/或者,所述第一开口和所述第二开口呈对称结构。

优选地,所述支撑台和所述密封罩可拆卸连接;并且/或者,所述XRD样品台包括与所述密封罩的内部相连通的用于抽取所述密封罩内的空气的至少一个连通管件。

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