[发明专利]一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法

权利要求书

1.一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于，采用共沉淀法制备氧化钇透明陶瓷，在沉淀反应阶段，反应溶液的搅拌速率控制在330～430r/min，它包括如下步骤：

1)共沉淀反应：向容器中倒入硝酸钇溶液，钇离子溶液浓度范围为0.05～0.3mol/L，向硝酸钇溶液中加入(NH₄)₂SO₄作为分散剂，采用搅拌器对混合溶液进行搅拌；搅拌均匀后将沉淀剂泵送至硝酸钇溶液溶液中；当pH值达7.8～9.0时，停止喷射和搅拌，将反应溶液静置陈化12～36h；抽滤、干燥前驱体，以去除前驱体中的无水乙醇；

2)煅烧：将干燥后的前驱体粉末进行过筛处理，过筛后放入马弗炉中进行900～1300℃煅烧1～3h，得到纳米氧化钇粉体；

3)成型：将煅烧后的氧化钇粉体进行过筛处理，并将所得粉体进行干压成型，随后进行冷等静压；

4)烧结：将素坯在马弗炉中进行素烧，去除有机物。再将素烧后的素坯其放入真空烧结炉中进行真空烧结、退火；

5)研磨抛光：将退火后的陶瓷片进行双面研磨抛光至1-3mm，得到氧化钇透明陶瓷。

2.如权利要求1所述的一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于：所述的步骤(1)中搅拌器的旋转直径与置放反应溶液的容器直径D/T范围为0.3～0.45，分散剂的氨水和碳酸氢铵的复合沉淀剂，碳酸氢铵和氨水浓度范围为1.5～2mol/L，碳酸氢铵与氨水摩尔比范围为0～3；沉淀剂泵送到硝酸钇溶液的方式为滴入或者喷入，泵送硝酸钇溶液时泵送范围为2～10mL/min；沉淀剂用蠕动泵泵送。

3.如权利要求1所述的一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于：所述的步骤(1)中(NH₄)₂SO₄与Y(NO₃)₃摩尔比范围为5～30mol％，加入分散剂后搅拌时间范围为0.5～1h，碳酸氢铵和氨水浓度范围为1.5～2mol/L。

4.如权利要求1所述的一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于：所述的步骤(1)中干燥温度范围为30～60℃，干燥时间范围为12～36h。

5.如权利要求1所述的一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于：所述的步骤(3)中干压压力范围为15～30Mpa，保压时间范围为1～3min，压为直径范围为15～30mm的圆形素坯；冷等静压的压力范围为180～240Mpa，保压时间范围为3～10min。

6.如权利要求1所述的一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于：所述的步骤(4)中素烧时间范围为3-8h，素烧温度范围为700～900℃，真空烧结时间范围为4～16h，烧结温度范围为1600～1800℃；退火温度范围为1100～1300℃，退火时间范围为8～12h。

7.如权利要求1所述的一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于：在沉淀反应阶段，所述的反应溶液的搅拌速率控制在380～400r/min。

8.如权利要求7所述的一种共沉淀制备氧化钇透明陶瓷的方法，其特征在于：在沉淀反应阶段，所述的反应溶液的搅拌速率控制在390r/min。