[发明专利]一种漏电保护型自举采样开关电路及设备有效

专利信息
申请号: 201710848077.8 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN107465407B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 张莉莉;曹淑新 申请(专利权)人: 豪威模拟集成电路(北京)有限公司
主分类号: H03K17/22 分类号: H03K17/22;H03K17/284;H03K17/16;H03K17/687
代理公司: 北京亿腾知识产权代理事务所(普通合伙) 11309 代理人: 陈霁
地址: 100094 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 漏电 保护 采样 开关电路 设备
【说明书】:

发明涉及一种漏电保护型自举采样开关电路及设备,其中,漏电保护型自举采样开关电路,包括:漏电保护型栅压自举电路、栅压复位电路和NMOS开关电路;所述漏电保护型栅压自举电路,包括漏电保护开关;所述漏电保护开关一端连接电源VDD,另一端连接MOS管,在时钟为高电平期间断开所述电源VDD与所述MOS管的连接;所述NMOS开关电路包括N型MOS管M9和M10;N型MOS管M9作为采样开关,其栅端电压由漏电保护型栅压自举电路和栅压复位电路控制;N型MOS管M10作为采样开关M9的DUMMY管,用来消除沟道注入电荷的影响,其栅端的控制时序与采样开关M9的栅端的控制时序相反,通过时钟CLK经过一段时间延时得到。本发明满足较高要求的线性度,和解决常用的自举采样开关的漏电问题。

技术领域

本发明属于模拟集成电路设计领域,尤其是涉及一种漏电保护型自举采样开关电路及设备。

背景技术

在CMOS电路设计中,常用的MOS开关主要包括自举开关、CMOS开关、以及众所周知的PMOS开关和NMOS开关。开关开启的时候,输入信号Vi n通过采样开关存储在电容上;开关断开时,电容上的电荷保持不变。采样开关电路的性能直接影响采样信号的精确度。

对于简单结构的NMOS开关来说,当输入信号幅度比较大时,开关NMOS管不能完全导通,导通电阻较大;对于PMOS开关来说,当输入信号幅度较小时,开关PMOS管不能完全导通,导通电阻较大。比较大的导通电阻将导致采样保持电路需要较长时间的建立时间。此外,NMOS开关和PMOS开关的导通电阻随输入信号的幅度变化而变化,直接影响ADC的线性度。CMOS开关是将NMOS管和PMOS管并联,两管并联可以解决在输入信号过低或者过高时导通电阻过大的情况,但是CMOS开关的电阻仍然会随着输入信号电压的变化而变化。

以NMOS开关管为例,MOS管处于漏源电压很小的导通状态,即工作在三极管区(线性区),此时的导通电阻为:

其中,μn表示NMOS管的迁移率,Cox为单位面积的栅氧化层电容,VDD为电源电压,Vi n为输入信号,VTH为NMOS管的阈值电压。NMOS管的栅源电压VGS=VDD-Vin一般不会超过电源电压。μnCox是和工艺相关的常数。那么,开关导通电阻Ron和输入信号Vin、阈值电压VTH相关,不是一个恒值,存在非线性,即导通电阻随输入信号变化而变化。

为解决开关的非线性问题,常常采用自举采样开关,如图2所示为一种常用的自举开关结构图。在时钟控制信号CLK为高电平时,自举采样开关处于闭合状态,此时P型MOS管M4的源端接VDD,衬底接B点,栅极为低电平,M4处于导通状态。此状态下的B点电位为(VDD+Vin),而由于寄生电容的存在,会和栅压自举电容C1一起进行电荷分配,导致实际的B点的电位是小于(VDD+Vin)。而当输入信号Vin=0时,M4的衬底的电位小于源端电压VDD,如图3所示为P型MOS管M4的剖面图,源端(S)跟衬底(B)之间会形成一个PN结。而当S跟B之间,也即是图2中的电源跟B点之间的电压差大于PN结的正向导通电压(硅管为0.7V,锗管为0.3V)时,PN结将正向导通,而其PN结的正向导通电流特性为:

其中,I为通过PN结正向电流,I0是不随电压变化的常量,T是热力学温度,e是电子的电荷量,k为玻尔兹曼常数,V为PN结的正向压降。由于在常温(300K)下,kT/e=0.026V,而PN结的正向压降约为十分之几伏,则exp(eV/kT)1,那么

可见,PN结的正向电流与PN结的正向压降V=VDD-VB成指数关系,V越大,向N阱注入的电流就越大,这是不能接受的。

发明内容

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