[发明专利]一种大模场多层瓣状光纤在审
| 申请号： | 201710850908.5 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107505673A | 公开（公告）日： | 2017-12-22 |
| 发明（设计）人： | 马绍朔;裴丽;郑晶晶 | 申请（专利权）人： | 北京交通大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;G02B6/036 |
| 代理公司： | 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙)11392 | 代理人： | 董琪 |
| 地址： | 100044 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 大模场 多层 光纤 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有大模场面积的多层瓣状光纤，其特征为：该光纤中心为高折射率纤芯(1)，内包层(2)内低折射率沟槽和高折射率环由内向外依次排列，高折射率环的层数为N，被M个抑制通道分割成N×M个瓣状芯，由内向外依次为(11,21,31,41)……(16,26,36,46)，最外面是外包层(3)；其中1≤N≤6，1≤M≤4。
2.根据权利要求1所述的光纤，其特征为：高折射率纤芯(1)、高折射率瓣(11,21,……,M1)、(12,22,……,M2)、……、(1N,2N,……,MN)的折射率相等。高折射率纤芯(1)的折射率大于内包层(2)的折射率，大于外包层(3)的折射率。
3.根据权利要求1所述的光纤，其特征为：所有高折射率环的厚度相等；所有高折射率环之间的距离相等，等于纤芯(1)与第一层高折射率环之间的距离；所有抑制通道的宽度相等。其中纤芯直径小于50微米，高折射率环的厚度大于5微米小于20微米，高折射率环之间的距离大于1微米小于10微米，抑制通道的宽度大于1微米小于10微米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京交通大学，未经北京交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710850908.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
