[发明专利]掩膜框架、掩膜版及其制作方法

权利要求书

1.一种掩膜框架，其特征在于，包括框架主体、固定部、挤压装置和压力感应装置，所述固定部位于框架主体相对两侧的内部，所述挤压装置用于穿过所述框架主体并对所述固定部施加压力，所述压力感应装置用于感应挤压装置对固定部施加的压力。

2.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述框架主体的相对两侧开设有凹槽，所述凹槽的底部开设有通孔，所述凹槽和通孔用于穿过所述挤压装置。

3.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述压力感应装置设置于固定部，并与所述通孔相对。

4.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，沿着所述掩膜框架的张网方向，所述框架主体的宽度d₁与固定部的宽度d₂的关系满足d₁≥2d₂。

5.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，沿着所述掩膜框架的张网方向，所述固定部与框架主体之间的距离d₃与固定部的宽度d₂的关系满足d₃≥d₂。

6.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，沿着所述掩膜框架的张网方向，所述凹槽的深度d₄与框架主体的宽度d₁的关系满足1/2d₁≥d₄≥1/3d₁。

7.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，沿着垂直于所述掩膜框架的张网方向，所述凹槽的长度h₁与突出于所述凹槽的凸起部的长度h₂的关系满足h₁≥2h₂。

8.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述挤压装置包括挤压杆和与所述挤压杆的一端固定连接的挤压块，所述挤压杆的外表面设置有外螺纹，所述凹槽的内表面设置有内螺纹，所述凹槽能够容纳所述挤压块，所述挤压杆能够穿过所述通孔。

9.一种掩膜版，其特征在于，包括多个掩膜条和权利要求1-8中任意一项所述掩膜框架，所述掩膜条相对的两端分别与掩膜框架相对两侧的固定部固定连接。

10.一种如权利要求9所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

对掩膜条相对的两端施加拉力，使得所述掩膜条产生相反方向的回缩力；

通过挤压装置对掩膜框架的固定部施加压力，压力感应装置感应所述挤压装置对固定部施加的压力；

将所述掩膜条相对的两端固定在所述固定部上。