[发明专利]CQ‑1瓷珠消氢性能试验操作工艺及其使用装置

权利要求书

1.CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺，其特征在于，包括以下步骤：

（1）对RD-1400氢分析器进行校准操作，用标气校准氢气分析器的零点和满度，将被试钯盘装到试验罐内的CQ-1仪器上，接通气路，通电通气，使其处于预热状态，约1.5小时后仪器才算进入正常工作状态；

（2）消氢性能试验，所述消氢性能试验包括：高氢动态消氢、低氢动态消氢和静态消氢；

（3）试验数据处理与钯盘消氢性能的判定。

2.根据权利要求1所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺，其特征在于：所述高氢动态消氢是在试验罐内CQ-1消氢器的加热器未通电加热、但电风扇处于运行状态下进行，采用通过气体流量控制装置对试验罐内通入氢气，开始阶段通氢气流量约为400L／h，与此同时用氢气分析器11测定试验罐内氢气浓度值，当氢气浓度接近3．5％氢气时，将流量降到26O～320L／h范围内某一值，使H2浓度值缓慢升至4．0土0．1％氢气并使其稳定约15分钟后，如果此刻H2分析器指示值已稳定，记录此时气体流量控制装置中流量计指示值，此值即为本试验钯盘的高氢消氢能力。

3.根据权利要求1所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺，其特征在于：所述低氢动态消氢包括通过气体流量控制装置对试验罐内通入氢气，通氢气流量为140～180L／h范围内某一值，与此同时用氢气分析器测定试验罐内氢气浓度，在氢气浓度值降到2．5土0．1％氢气后使其稳定约15分钟，如果此时仪器指示值已稳定，记录此刻气体流量控制装置中流量计的指示值，此值即为本试验钯盘的低氢动态消氢量。

4.根据权利要求1所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺，其特征在于：所述静态消氢包括在试验罐内氢气浓度值持续（约15分钟）为4土O．1％氢气状态下停止对试验罐通入（补充）氢气，测定试验罐内氢气浓度由4土0．1％氢气降到1．5土0．1％氢气所经历的时间。

5.CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺的使用装置，其特征在于：包括消氢器试验罐，所述消氢器试验罐的顶部开有进气嘴，侧面开有返回气嘴，底部开有出气嘴，所述进气嘴通过进气管路与标气供给装置连接，进气嘴与标气供给装置之间还连接有隔爆连接器；出气嘴通过出气管路与氢气分析器连接，氢气分析器通过返回管路与返回气嘴连接，

所述出气管路与氢气分析器之间还依次连接有第一球阀、抽气泵、稳压器、干燥器；氢气分析器与返回气嘴之间还连接有流量计二，流量计二与返回气嘴之间连接有隔爆连接器二。

6.根据权利要求1所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺的使用装置，其特征在于：所述抽气泵与稳压器之间还安装有针型阀。

7.根据权利要求1所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺的使用装置，其特征在于：所述稳压器选用水封稳压器。

8.根据权利要求1所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺的使用装置，其特征在于：所述标气供给装置包括安装在进气管道上的流量计一、减压稳压阀和第二球阀，第二球阀通过进气管分别与氢气钢瓶和压缩空气钢瓶连接。

9.根据权利要求5或8所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺的使用装置，其特征在于：所述第一球阀和第二球阀为二位一通球阀。

10.根据权利要求9所述的一种CQ-1瓷珠消氢性能试验操作工艺的使用装置，其特征在于：所述第一球阀通过管路与大气相通。