[发明专利]一种大模场改进型多层沟槽光纤在审
| 申请号： | 201710857152.7 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107367788A | 公开（公告）日： | 2017-11-21 |
| 发明（设计）人： | 宁提纲;马绍朔;李晶 | 申请（专利权）人： | 北京交通大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙)11392 | 代理人： | 董琪 |
| 地址： | 100044 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 大模场 改进型 多层 沟槽 光纤 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有大模场面积的改进型多层沟槽光纤，其特征为：该光纤中心为高折射率纤芯(1)，由内到外分布M×N个被泄露通道分割的低折射率沟槽，(11,21,……,M1)、(12,22,……,M2)、……、(1N,2N,……,MN)，最外面是外包层(3)；其中1≤N≤6，1≤M≤4。
2.根据权利要求1所述的光纤，其特征为：低折射率沟槽(11,21,……,M1)、(12,22,……,M2)、……、(1N,2N,……,MN)的折射率相等。高折射率纤芯(1)的折射率大于低折射率沟槽(11,21,……,M1)、(12,22,……,M2)、……、(1N,2N,……,MN)的折射率，大于外包层(3)的折射率。
3.根据权利要求1所述的光纤，其特征为：所有低折射率沟槽厚度相等，所有低折射率沟槽之间的距离相等，所有泄露通道的宽度相等。其中纤芯直径小于50微米，低折射率沟槽厚度大于1微米小于3微米，低折射率沟槽之间的距离大于5微米小于20微米，泄露通道的宽度大于1微米小于10微米。
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