[发明专利]柔性阵列基板及其制备方法

权利要求书

1.一种柔性阵列基板，包括设置在基膜上的薄膜晶体管阵列结构层，所述薄膜晶体管阵列结构层形成多个阵列排布的像素区域，其特征在于，所述像素区域内设置有液晶偏转层，所述液晶偏转层上设置有用于承载液晶的凹槽；

所述液晶偏转层的材质采用树脂；

所述凹槽呈条状，凹槽宽度为2μm～6μm；

所述柔性阵列基板还包括设置在基膜相对侧的封装膜，以将液晶完全封装在凹槽中；封装膜采用高分子膜或无机膜；

所述柔性阵列基板还包括设置在所述液晶偏转层的靠近所述基膜一侧的彩膜和第三绝缘层，所述彩膜设置在所述薄膜晶体管阵列结构层上，所述第三绝缘层设置在所述彩膜上。

2.根据权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于，所述柔性阵列基板还包括位于所述液晶偏转层上的第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极分别位于相邻的所述凹槽之间，所述第一电极和所述第二电极依次交替排列。

3.根据权利要求1所述的柔性阵列基板，其特征在于，还包括黑矩阵，所述黑矩阵与所述彩膜设置在同一层。

4.一种柔性阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基膜上形成薄膜晶体管阵列结构层，所述薄膜晶体管阵列结构层形成多个阵列排布的像素区域；

在所述薄膜晶体管阵列结构层上形成彩膜，所述彩膜位于像素区域；

在所述彩膜上形成第三绝缘层；

在所述第三绝缘层上形成位于像素区域的液晶偏转层；所述液晶偏转层的材质采用树脂；

在所述液晶偏转层上形成用于承载液晶的凹槽；所述凹槽呈条状，凹槽宽度为2μm～6μm；

形成封装膜，所述封装膜位于所述基膜的相对侧，以将液晶完全封装在凹槽中；封装膜采用高分子膜或无机膜。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述在所述液晶偏转层上形成多个用于承载液晶的凹槽，包括：

在所述液晶偏转层上形成第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极依次交替排列；

通过刻蚀工艺刻蚀位于相邻的所述第一电极和第二电极之间的液晶偏转层，形成用于承载液晶的凹槽。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，还包括，形成黑矩阵，所述黑矩阵与所述彩膜位于同一层。