[发明专利]颅内皮层神经信息检测电极、电极阵列及其制备方法

权利要求书

1.一种颅内皮层神经信息检测电极，包括：

基底层，所述基底层的材料为柔性材料，所述基底层包括聚二甲基硅氧烷或聚酰亚胺；

电极层，位于所述基底层上方，其包括：

两端的焊盘，每一焊盘的一部分作为焊盘接口，用于与外接设备连接；

置于焊盘之间、且与焊盘分离设置的三电极体系，所述三电极体系包括对电极、参比电极和工作电极，所述工作电极包括交叉排布的：

多个微电极，用于检测颅内皮层多个细胞产生的动作电位信号；

多个宏电极，用于检测颅内皮层单个细胞产生的场电位信号；

绝缘层，覆盖于所述电极层表面，其具有与焊盘和三电极体系正对的焊盘窗口和电极窗口，以露出所述焊盘接口、对电极、参比电极和工作电极；

缓冲层，位于所述基底层和电极层之间，所述缓冲层的杨氏模量与所述基底层的杨氏模量的差值大于2800MPa。

2.根据权利要求1所述的颅内皮层神经信息检测电极，其中，所述缓冲层包括聚对二甲苯或聚酰亚胺。

3.根据权利要求1所述的颅内皮层神经信息检测电极，其中，所述微电极的直径为1～50μm，所述宏电极的直径为100～500μm。

4.根据权利要求1所述的颅内皮层神经信息检测电极，其中，所述三电极体系的材料包括铬/金、钛/铂或钽/铂。

5.一种颅内皮层神经信息检测电极阵列，由多个权利要求1至4中任一项所述的颅内皮层神经信息检测电极组成，其中，所述多个颅内皮层神经信息检测电极共用同一基底层。

6.一种颅内皮层神经信息检测电极的制备方法，包括以下步骤：

在形成有牺牲层的玻璃片上，在牺牲层表面形成基底层；所述基底层的材料为柔性材料，包括聚二甲基硅氧烷或聚酰亚胺；

在所述基底层表面形成缓冲层，所述缓冲层的杨氏模量与所述基底层的杨氏模量的差值大于2800Mpa；

金属层形成于所述缓冲层表面，并在所述金属层表面旋涂一层光刻胶并放置掩膜板；

通过光刻腐蚀，使所述金属层形成包括两端的焊盘和中间独立设置的三电极体系的电极层；每个焊盘的一部分作为焊盘接口，以用于与外接设备连接；所述三电极体系的工作电极包括交叉排布的多个微电极和多个宏电极，以用于对所述颅内皮层的细胞进行检测；

在所述金属层表面形成开有焊盘窗口和电极窗口的绝缘层，以露出所述焊盘接口、对电极、参比电极和工作电极；

将所述基底层与所述牺牲层剥离，得到以所述基底层为基底的颅内皮层神经信息检测电极。

7.根据权利要求6所述的颅内皮层神经信息检测电极的制备方法，其中，

所述缓冲层的材料包括聚对二甲苯或聚酰亚胺。

8.根据权利要求6所述的颅内皮层神经信息检测电极的制备方法，其中，所述微电极直径为1～50μm，所述宏电极直径为100～500μm。

9.根据权利要求6所述的颅内皮层神经信息检测电极的制备方法，其中，所述绝缘层的材质包括聚二甲基硅氧烷或SU-8负胶；所述电极层的材质包括铬/金、钛/铂或钽/铂。

10.根据权利要求6所述的颅内皮层神经信息检测电极的制备方法，其中，所述绝缘层的电极窗口和焊盘窗口在形成所述绝缘层后开设。