[发明专利]一种不干胶粘纸结构在审

专利信息
申请号: 201710863011.6 申请日: 2017-09-22
公开(公告)号: CN107492304A 公开(公告)日: 2017-12-19
发明(设计)人: 谭銮章 申请(专利权)人: 浙江绿洲胶粘制品有限公司
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02
代理公司: 杭州千克知识产权代理有限公司33246 代理人: 赵卫康
地址: 313000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 不干 胶粘 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及不干胶粘纸技术领域,具体为一种不干胶粘纸结构。

背景技术

为了记录和区别商品的信息和种类,厂家会在商品上粘贴标签来标记。不干胶粘纸标签,也叫自粘标签、即时贴、及时贴等,应用时,只需从底纸上剥离,轻轻一按,即可贴到各种基材表面,具有不用刷胶、不用浆糊、不用蘸水、无污染、节省贴标时间等优点,应用范围广, 方便快捷。但是现有的不干胶粘纸标签在书写之前表面就已经涂覆了一层膜,由于膜太光滑,使得书写很不便利,且字迹容易被抹去。

发明内容

本发明针对现有技术存在的问题,提出了一种不干胶粘纸结构,能够先书写文字再贴加保护膜,提高了不干胶粘纸的使用便利性和使用效果。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种不干胶粘纸结构,包括不干胶书写层,设置在所述不干胶书写层底部的第一胶黏层,设置在所述第一胶黏层底部的第一离型纸层,设置在所述第一离型纸层顶部且通过折叠结构与所述不干胶书写层以及所述第一胶黏层连接的保护膜层,设置在所述保护膜层顶部的第二胶黏层,以及设置在所述第二胶黏层顶部的第二离型纸层。

作为优选,所述第一离型纸层与所述保护膜层之间还设有防污层。

作为优选,所述防污层为聚酯类高分子材料涂层。

作为优选,所述不干胶书写层与所述第一胶黏层之间还设有耐高温涂层。

作为优选,所述保护膜层为由聚醇、聚氰 盐、聚丙烯酸或聚酯等高分子聚合物组成的透明涂层。

作为优选,所述不干胶书写层及所述第一胶黏层的自由端通过撕离式结构连接第一指捏层。

作为优选,所述保护膜层及所述第二胶黏层的自由端通过撕离式结构连接第二指捏层。

本发明的有益效果是,本申请的不干胶粘纸结构能够先书写文字再贴加保护膜,提高了不干胶粘纸的使用便利性和使用效果;通过设置指捏层可避免手指直接接触胶黏层,防止手指污染胶黏层,进一步提高了不干胶粘纸的使用便利性和使用效果。

附图说明

图1为本发明一种不干胶粘纸结构的结构示意图;

其中,1、不干胶书写层,2、第一离型纸层,3、第一胶黏层,4、防污层,5、第二胶黏层,6、第二离型纸层,7、折叠结构,8、保护膜层,9、耐高温涂层,10、第一指捏层,11、第二指捏层。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

如图1所示,一种不干胶粘纸结构,包括不干胶书写层1,设置在所述不干胶书写层1底部的第一胶黏层3,设置在所述第一胶黏层3底部的第一离型纸层2,设置在所述第一离型纸层2顶部且通过折叠结构7与所述不干胶书写层1以及所述第一胶黏层3连接的保护膜层8,设置在所述保护膜层8顶部的第二胶黏层5,以及设置在所述第二胶黏层5顶部的第二离型纸层6。使用时,先在不干胶书写层1表面写上相关的文字信息,然后将第二离型纸层6撕掉,并通过折叠结构7将保护膜层8翻转折叠至不干胶书写层1上,保护膜层8会通过第二胶黏层5与不干胶书写层1牢牢固定,起到保护文字和增加光泽的效果,最后将整个不干胶粘纸从第一离型纸层2上撕下再贴到相应的物体表面。通过先写字再贴保护膜的方式提高了不干胶粘纸结构的使用效果和使用便利性。

所述第一离型纸层2与所述保护膜层8之间还设有防污层4,所述防污层4为聚酯类高分子材料涂层,所述保护膜层8为由聚醇、聚氰盐、聚丙烯酸或聚酯等高分子聚合物组成的透明涂层。通过防污层4与保护膜层8结合可使得不干胶书写层1上的图文信息在长时间内保持清晰。

所述不干胶书写层1与所述第一胶黏层3之间还设有耐高温涂层9,耐高温涂层9可有效保护不干胶书写层1,如当不干胶粘纸粘贴在设备或者物品上时,当粘贴的部位由于某种原因发热而导致温度升高,该耐高温涂层9的存在可有效保护不干胶书写层1不被高温破环。

所述不干胶书写层1及所述第一胶黏层3的自由端通过撕离式结构连接第一指捏层10,所述保护膜层8及所述第二胶黏层5的自由端通过撕离式结构连接第二指捏层11,通过指捏层工作人员在不干胶粘纸使用过程中可避免手指直接与胶黏层直接接触,一方面可避免指纹污染胶黏层,另一方面提高了不干胶粘纸的使用效率和使用效果,当不干胶粘纸贴好之后可直接将指捏层撕除,使用非常便利性。

上面所述的实施例仅是对本发明的优选实施方式进行描述,并非对本发明的构思和范围进行限定。在不脱离本发明设计构思的前提下,本领域普通人员对本发明的技术方案做出的各种变型和改进,均应落入到本发明的保护范围,本发明请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。

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