[发明专利]透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法

说明书

本发明涉及一种透明导电性薄膜，含有多个颗粒团簇，颗粒团簇由多个纳米粒子团聚形成。颗粒团簇使第一金属层和/或第二金属层的表面形成多个凸起，使导电性薄膜能够抗粘连。而且，由于颗粒团簇是由多个纳米粒子团聚形成，故针对单个纳米粒子的尺寸无需进行精确的控制，而只需在形成颗粒团簇时通过控制团聚的纳米粒子的数量即可得到符合尺寸要求的凸起。因此，可简化制备上述透明导电性薄膜的工艺流程，进而提升加工效率。此外，纳米粒子的粒径分布满足：D10＝40nm、D90＝15nm时，大小粒径的纳米粒子相互混合均匀，使得粒径较大的纳米粒子之间夹杂粒径较小的纳米粒子，进而可使颗粒团簇尺寸更均匀。此外，本发明还提供一种触控屏及其制备方法。

技术领域

本发明涉及电容式触控屏技术领域，特别涉及一种透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法。

背景技术

透明导电性薄膜是电容式触控屏的核心元件。随着智能终端的飞速发展，对透明导电性薄膜的需求量也是日益增大。透明导电性薄膜一般包括基材及设置于基材两侧的硬涂层、导电层及金属层。目前，由于非晶性聚合物薄膜与结晶性聚合物薄膜相比，具有双折射率较少并且均匀的优点，故大部分透明导电薄膜使用非晶型聚合薄膜形成的基材。

非晶性聚合物薄膜比结晶性聚合物薄膜更脆弱，其表面更容易受到损伤。在卷曲透明导电性薄膜使其为筒状时，会存在相邻的透明导电薄膜的金属层彼此产生粘连及压接的问题。因此，出现了在硬涂层中添加颗粒，以使金属层表面形成凸起的透明导电性薄膜。凸起可使相邻的金属层形成点接触，从而避免发生粘连及压接。

现有的导电膜中，颗粒的粒径一般为微米级，且单个颗粒形成一个凸起。由于针对突起的尺寸(高度)是有要求的。因此，在颗粒预制时也需对每个颗粒的尺寸进行严格的控制，以使颗粒最终形成的凸起符合尺寸要求。而且，对于制备完的颗粒还需要进行筛选，并将不符合尺寸要求的颗粒剔除。这样，在导电膜的制备过程中，需要进行颗粒的尺寸控制以及后续的颗粒筛选步骤，故增加了流程，从而导致导电膜的加工效率不高。

发明内容

基于此，有必要针对现有的具有抗粘连功能的透明导电性薄膜在加工效率不高的问题，提供一种能有效提升加工效率的透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法。

一种透明导电性薄膜，包括：

基材，包括相对设置的第一表面及第二表面；

依次形成于所述第一表面的第一硬涂层、第一透明导电层及第一金属层；

依次形成于所述第二表面的第二硬涂层、第二透明导电层及第二金属层；

所述第一硬涂层和/或所述第二硬涂层含有多个颗粒团簇，以在所述第一金属层和/或所述第二金属层的表面形成多个凸起，所述颗粒团簇由多个纳米粒子团聚形成，且所述纳米粒子的粒径分布满足：D10＝40nm，且D90＝15nm，其中，D10＝40nm表示粒径达到40nm的纳米粒子占总数的10％；D90＝15nm表示粒径达到15nm的纳米粒子占总数的90％。

由于颗粒团簇是由多个纳米粒子团聚形成。因此，针对单个纳米粒子的尺寸无需进行精确的控制。在形成颗粒团簇时，只需通过控制团聚的纳米粒子的数量，即可得到符合尺寸要求的凸起。在制备上述透明导电性薄膜时，由于既不用对纳米粒子的尺寸进行精确的控制，也无需对得到的纳米粒子进行筛选，故可简化工艺流程，进而提升加工效率。

此外，纳米粒子的粒径分布满足：D10＝40nm、D90＝15nm时，大小粒径的纳米粒子相互混合均匀，使得粒径较大的纳米粒子之间夹杂粒径较小的纳米粒子，进而可使形成的颗粒团簇尺寸更均匀。

进一步的，多个纳米粒子在团聚成颗粒团簇时，相邻的纳米粒子之间难以避免会存在间隙。因此，颗粒团簇与单个微米级颗粒相比，其内部具有“空心结构”，故对光线的遮挡作用减弱。也就是说，包含有颗粒团簇的第一硬涂层和/或第二硬涂层的透光率增加，从而能有效改善透明导电性薄膜的光学效果。