[发明专利]具有抗菌生物活性MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710864169.5 申请日: 2017-09-22
公开(公告)号: CN108048807B 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 徐江;孙腾腾;姚凡 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/08;C23C14/10
代理公司: 江苏圣典律师事务所 32237 代理人: 贺翔;杨文晰
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 具有 抗菌 生物 活性 moo3 sio2 纳米 复合 涂层 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有抗菌生物活性MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:

a.首先利用双阴极等离子溅射Mo-Si层,工艺参数如下:

靶材电压:800V~1000V;

工件电压:250V~350V;

靶材与工件间距:10mm~20mm;

工作气压:25Pa~40Pa;

沉积温度:750℃~950℃;

沉积时间:3.0h~5.0h;

b.其次进行等离子氧化,工艺参数如下:

氧化电压:650V~750V;

工件电压:250V~350V;

氧化温度:450℃~600℃;

工作气压:25Pa~40Pa;

氧分压:0.1Pa~1Pa;

氧化时间:1.0h~2.0h。

2.根据权利要求1所述具有抗菌生物活性MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,所述靶材为等摩尔质量混合的Mo-Si靶。

3.根据权利要求2所述具有抗菌生物活性MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,所述工件为316L不锈钢。

4.根据权利要求1所述具有抗菌生物活性MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤a双阴极等离子溅射的工作气压是指氩气气压。

5.根据权利要求4所述具有抗菌生物活性MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤b等离子氧化工作气压是指氩气和氧气的混合气压,氩气和氧气的体积比为20:1。

6.根据权利要求1-5之一所述具有抗菌生物活性MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,步骤a双阴极等离子溅射工艺参数为:靶材电压:950V,工件电压:350V,靶材与工件间距:15mm,工作气压:35Pa,沉积温度:950℃,沉积时间:4h;步骤b等离子氧化工艺参数为:氧化电压:700V,工件电压300V,氧化温度:600℃,工作气压:35Pa,氧分压:1Pa,氧化时间:1.5h。

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