[发明专利]一种等离子体注入腔室内衬结构有效
申请号: | 201710868864.9 | 申请日: | 2017-09-22 |
公开(公告)号: | CN107706079B | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 朱剑豪;童丽萍;江敏;傅劲裕;李鹏辉 | 申请(专利权)人: | 深圳市中科摩方科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 付奕昌 |
地址: | 518112 广东省深圳市龙岗区吉华街道甘李*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子体 注入 内衬 结构 | ||
本发明公开了一种等离子体注入腔室内衬结构,包括可拆卸式固定在等离子体注入腔室内的侧壁和顶壁,所述侧壁由至少十个基板和两个透明基板沿圆周方向首尾相接组合构成,两个所述透明基板左右对称分布,所述顶壁包括呈正十二边形的基板和十二个呈扇形的基板拼接组合构成,内衬的侧壁和顶壁由多块基板拼接组合构成,可以根据实际处理生物材料的需求,灵活快速地更换选择不同特性涂层的基板,充分地防止内壁元素被溅射到样品中,造成样品的注入污染。
技术领域
本发明涉及等离子体注入处理技术领域,特别涉及一种等离子体注入腔室内衬结构。
背景技术
目前,通过等离子体浸没注入技术处理样品过程中,腔室内壁会被溅射出铁、铝等元素,由于副偏压的作用,这些溅射出来的元素会被注入到待处理样品中,造成注入污染,从而影响样品的性能。现有技术中通常是在腔室内壁设置内衬结构以减少腔室内壁的污染问题,如专利CN 201785482U公开的一种等离子体浸没离子注入设备,包括离子注入腔室,离子注入腔室内壁设置通过整块材料制成的内衬,内衬表面涂覆有单晶硅、多晶硅、非晶硅或二氧化硅。但是该种结构形式的内衬结构笨重,拆装不便,内衬表面涂覆含硅材料,适合于半导体材料的处理,不适用于生物材料处理。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种结构简单、拆装便捷、使用灵活的等离子体注入腔室内衬结构。
为解决上述技术问题所采用的技术方案:一种等离子体注入腔室内衬结构,包括可拆卸式固定在等离子体注入腔室内的侧壁和顶壁,所述侧壁由至少十个基板和两个透明基板沿圆周方向首尾相接组合构成,两个所述透明基板左右对称分布,所述顶壁由呈正十二边形的基板和十二个呈扇形的基板拼接组合构成,所述基板内侧表面涂覆有涂层。
进一步地,所述基板包括铝合金片材,所述透明基板为石英片材。
进一步地,所述涂层的厚度为5um-1.5mm。
进一步地,在两个所述透明基板上分别设有射频电源模块,所述顶壁的基板上间隔设有多个射频电源模块。
进一步地,还包括可拆卸固定在侧壁内并与侧壁存在预定间隙的活动侧壁,所述活动侧壁由两个弧形基板和两个透明基板沿圆周方向间隔交错相接组合构成,所述活动侧壁的透明基板与侧壁的透明基板对应,在所述弧形基板上均等间隔排列设有多个气体分流通孔,在所述弧形基板的内侧、外侧表面涂覆有涂层。
进一步地,所述气体分流通孔为条形槽孔沿圆周方向呈格栅状的排列分布。
进一步地,所述弧形基板左右侧端分别形成承口,所述透明基板左右侧端分别形成与承口对应相接的插口。
进一步地,所述弧形基板的扇形角度为160°。
有益效果:此等离子体注入腔室内衬结构中,内衬的侧壁和顶壁由多块基板拼接组合构成,可以根据实际处理生物材料的需求,灵活快速地更换选择不同特性涂层的基板,充分地防止内壁元素被溅射到样品中,造成样品的注入污染。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明做进一步的说明;
图1为本发明实施例的结构示意图;
图2为本发明实施例的俯视图;
图3为本发明实施例的剖面结构示意图;
图4为图3中A-A线的剖面结构示意图;
图5为图3中A-A线另一实施方式的剖面结构示意图;
图6为发明实施例中承口与插口配合的结构示意图。
具体实施方式
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