[发明专利]集成电路有效

专利信息
申请号: 201710874031.3 申请日: 2017-09-25
公开(公告)号: CN108376552B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 金昌铉;具岐峰;宋清基;尹炳国;李约瑟;李宰承 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: G11C29/02 分类号: G11C29/02;G11C29/14;G11C29/18;G11C29/50
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 程强;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 集成电路
【说明书】:

可以提供一种包括半导体器件的集成电路。半导体器件可以被配置为比较根据半导体器件的内部延迟时间产生的选通信号的相位,并且被配置为根据选通信号的相位的比较结果来控制内部命令被输入至半导体器件的内部电路的时间点。

相关申请的交叉引用

本申请要求2017年1月31日提交的申请号为10-2017-0014105的韩国专利申请的优先权,其全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本公开的实施例总体而言可以涉及控制内部命令输入至构成每个集成电路的半导体器件的内部电路的时间点的集成电路。

背景技术

近来,随着封装技术的发展,已经提出了由层叠在单个封装体中的多个半导体器件组成的集成电路。由多个半导体器件组成的集成电路可以制造成包括电极和穿通硅通孔(TSV)。各种内部信号和电源电压可以经由多个半导体器件的电极和穿通硅通孔(TSV)传输。

包括在集成电路中的多个半导体器件可以被设计为具有不同的功能并且可以被封装在单个封装体中。因此,可能需要补偿封装在单个封装体中的半导体器件的信号之间的偏差。

发明内容

根据一个实施例,可以提供一种集成电路。该集成电路可以包括第一半导体器件和第二半导体器件。第一半导体器件可以被配置为将从命令产生的内部命令输出至第一输入穿通电极。第一半导体器件可以被配置为将从内部命令产生的高阶选通信号输出至第一输出穿通电极。第一半导体器件可以被配置为检测从第二输出穿通电极接收的低阶选通信号与高阶选通信号之间的相位差,以控制内部命令的输入时间点。第二半导体器件可以被配置为从第一输入穿通电极接收内部命令。第二半导体器件可以被配置为从内部命令产生低阶选通信号以将低阶选通信号输出至第二输出穿通电极。第二半导体器件可以被配置为检测从第一输出穿通电极接收的高阶选通信号与低阶选通信号之间的相位差,以控制内部命令的输入时间点。

根据一个实施例,可以提供一种集成电路。该集成电路可以包括第一半导体器件和第二半导体器件。第一半导体器件可以被配置为从第一输入穿通电极接收内部命令。第一半导体器件可以被配置为从内部命令产生高阶选通信号以将高阶选通信号输出至第一输出穿通电极。第一半导体器件可以被配置为检测从第二输出穿通电极接收的低阶选通信号与高阶选通信号之间的相位差,以控制内部命令的输入时间点。第二半导体器件可以被配置为从第一输入穿通电极接收内部命令。第二半导体器件可以被配置为从内部命令产生低阶选通信号以将低阶选通信号输出至第二输出穿通电极。第二半导体器件可以被配置为检测从第一输出穿通电极接收的高阶选通信号与低阶选通信号之间的相位差,以控制内部命令的输入时间点。

根据一个实施例,可以提供一种集成电路。该集成电路可以包括层叠在单个封装体中的半导体器件,每个半导体器件包括通过穿通电极彼此耦接的内部电路,且可以被配置为补偿输入至半导体器件的内部电路的信号之间的时间偏斜差。半导体器件可以被配置为比较根据半导体器件的内部延迟时间而产生的选通信号的相位,并且可以被配置为根据选通信号的相位的比较结果来控制内部命令被输入至半导体器件的内部电路的时间点。

附图说明

图1是示出根据本公开的一个实施例的集成电路的配置的框图。

图2是示出包括在图1的集成电路中的控制电路的配置的框图。

图3是示出包括在图1的集成电路中的第一内部电路的配置的框图。

图4是示出包括在图3的第一内部电路中的延迟电路的配置的框图。

图5是示出包括在图1的集成电路中的第一校准电路的配置的框图。

图6是示出包括在图1的集成电路中的第一检测电路的配置的框图。

图7是示出在本公开的实施例中相对于第一检测电路和第二检测电路的操作的校准操作的时序图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司,未经爱思开海力士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710874031.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top