[发明专利]共轭二烯系聚合物的制备方法,共轭二烯系聚合物和共轭二烯系聚合物组合物在审
申请号: | 201710878291.8 | 申请日: | 2012-01-29 |
公开(公告)号: | CN107652395A | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 伊藤真;稻垣胜成;大岛真弓 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C08F236/10 | 分类号: | C08F236/10;C08F212/08;C08F230/08;C08F4/48;C08L9/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 李新红 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 共轭 二烯系 聚合物 制备 方法 组合 | ||
1.一种制备共轭二烯系聚合物的方法,所述方法包括:使用由下式(1)表示的聚合引发剂,聚合含有共轭二烯化合物和含硅的乙烯系化合物的单体组分,
式(1)中,R11表示含6至100个碳原子的亚烃基,并为由下式(1-A)表示的基团,
式(1-A)中,R14表示由衍生自共轭二烯化合物的结构单元和/或衍生自芳族乙烯系化合物的结构单元构成的亚烃基,并且n表示1至10的整数,
R12和R13表示任选具有取代基的烃基,或三烃基甲硅烷基,或者R12和R13相结合表示任选具有选自由硅原子、氮原子和氧原子组成的原子组中的至少一种原子作为杂原子的亚烃基,M表示碱金属原子。
2.根据权利要求1所述的制备共轭二烯系聚合物的方法,其中R14为由1个单元至10个单元的衍生自异戊二烯的结构单元构成的亚烃基。
3.根据权利要求1所述的制备共轭二烯系聚合物的方法,其中使含有氮原子和/或硅原子的化合物与通过聚合制备的聚合物的活性端反应。
4.根据权利要求3所述的制备共轭二烯系聚合物的方法,其中所述含有氮原子和/或硅原子的化合物为含有氮原子和羰基的化合物。
5.一种通过权利要求1至4中任一项所述的方法制备的共轭二烯系聚合物。
6.一种共轭二烯系聚合物组合物,所述共轭二烯系聚合物组合物包含权利要求5所述的共轭二烯系聚合物和增强剂,其中相对于100重量份的所述共轭二烯系聚合物,所述增强剂的含量为10重量份至150重量份。
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