[发明专利]光检测装置

说明书

光检测装置具备遮光膜、光耦合层、光检测器和光学系统。遮光膜至少在第1方向上交替地配置有多个透光区域及多个遮光区域。光耦合层与上述遮光膜对置，包括使光在上述第1方向上传输的光栅。光检测器包括排列在摄像面上的多个第1光检测单元及多个第2光检测单元。光学系统配置在上述光耦合层及上述光检测器之间。在上述光耦合层中透射了与上述多个透光区域及遮光区域分别对置的部分的光的像分别被上述光学系统放大或缩小，并形成在上述多个第1及第2光检测单元中的对应的光检测单元上。

技术领域

本申请涉及利用光的干涉现象取得与被摄体的光学特性有关的信息的光检测装置。

背景技术

光是电磁波，除波长及强度以外，还可通过偏光及干涉性等特性来赋予特征。其中，作为利用光的干涉性来测定被摄体的方法，例如可以举出在“光学的原理”(东海大学出版会，p.482，M·Born等)中示出的使用迈克尔逊干涉仪的方法。

发明内容

有关本申请的一技术方案的光检测装置具备：遮光膜，至少在第1方向上交替地配置有多个透光区域及多个遮光区域；光耦合层，与上述遮光膜对置，包括光栅，在规定的波长的入射光入射到上述多个透光区域时，该光栅将上述入射光的一部分向上述第1方向传输，使上述入射光的另一部分透射；光检测器，具有摄像面，包括配置在上述摄像面上的多个第1光检测单元及多个第2光检测单元；以及光学系统，配置在上述光耦合层及上述光检测器之间。上述多个第1光检测单元配置在以下的位置，该位置为，使得在上述光耦合层中透射了与上述多个透光区域分别对置的部分的光的像被上述光学系统放大或缩小、并形成在上述多个第1光检测单元中的对应的第1光检测单元上的位置。上述多个第2光检测单元配置在以下的位置，该位置为，使得在上述光耦合层中透射了与上述多个遮光区域分别对置的部分的光的像被上述光学系统放大或缩小、并形成在上述多个第2光检测单元中的对应的第2光检测单元上的位置。

上述包含性或具体的形态也可以由系统、方法、集成电路、计算机程序或记录介质实现。或者，也可以由系统、装置、方法、集成电路、计算机程序及记录介质的任意的组合实现。

附图说明

图1A是有关本研究例的光检测系统的示意图。

图1B表示向光检测装置13具备的1个透光区域入射的散射光的状况。

图2A是沿着光入射的方向的面的光检测装置的剖视图。

图2B是将光检测装置从光入射的一侧观察的平面图。

图3表示光检测装置的信号处理的方法。

图4A表示透光区域、遮光区域的图案的平面图。

图4B表示检测器的图案的平面图。

图4C表示透光区域、遮光区域及检测器的位置关系的剖视图。

图5A表示与图2A相同的剖视图。

图5B表示与图5A对应地描绘的通过FDTD法得到的光强度分布的电磁解析结果。

图5C表示与图5A对应地描绘的通过FDTD法得到的光强度分布的电磁解析结果。

图5D表示与图5A对应地描绘的通过FDTD法得到的光强度分布的电磁解析结果。

图5E表示与图5A对应地描绘的通过FDTD法得到的光强度分布的电磁解析结果。

图5F表示与图5A对应地描绘的通过FDTD法得到的光强度分布的电磁解析结果。

图5G表示与图5A对应地描绘的通过FDTD法得到的光强度分布的电磁解析结果。

图5H表示与图5A对应地描绘的通过FDTD法得到的光强度分布的电磁解析结果。