[发明专利]膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法和设备

权利要求书

1.一种膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，包括：

S01、选取膜层刻蚀区域的至少一部分为分析区域；

S02、建立与所述分析区域对应的平面模型；

S03、以第一密度对所述平面模型进行网格划分；

S04、根据膜层材料的实际力学参数和第一密度的网格划分，通过有限元法分析平面模型在模拟边界条件下的第一模拟应力；

S05、计算等效力学参数，其中，在模拟边界条件下，等效力学参数能使与平面模型边界尺寸相同的各向异性的平面盲板达到第一模拟应力；

其中，所述分析区域为长方形区域，其具有平行于X方向的第一边和第三边，以及平行于Y方向的第二边和第四边，所述第一边和第三边的长度为L₁，所述第二边和第四边的长度为L₂；

所述模拟边界条件包括第一边界条件和第二边界条件，其中，

所述第一边界条件为第一边、第三边、第四边固定，第二边沿X方向远离第四边发生C₁L₁的位移，在第一边界条件下沿X方向的应力为σ_X1，而沿Y方向的应力为σ_Y1；

所述第二边界条件为第一边、第二边、第四边固定，第三边沿X方向远离第一边的方向发生C₂L₂的位移，在第二边界条件下沿X方向的应力为σ_X2，而沿Y方向的应力为σ_Y2；

所述等效力学参数包括X方向的等效弹性模量E_X和等效泊松比V_XY，以及Y方向的等效弹性模量E_Y和等效泊松比V_YX，其通过以下公式计算：

2.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，

所述L₁在0.001～0.5mm；

所述L₂在0.001～0.5mm。

3.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，

所述C₁在0.0001～0.005；

所述C₂在0.0001～0.005。

4.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，

所述网格为正方形，其边长在0.003～0.02mm。

5.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，

所述膜层材料的实际力学参数为膜层材料在指定温度下的实际力学参数。

6.根据权利要求1所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，在所述步骤S04和S05之间，还包括：

以第二密度对平面模型进行网格划分，所述第二密度为第一密度的二倍；

根据膜层材料的实际力学参数和第二密度的网格划分，通过有限元法分析平面模型在模拟边界条件下的第二模拟应力；

比较所述第二模拟应力与第一模拟应力的差别是否超过阈值，若是则返回S03步骤，并重新选取更大的第一密度；若否则进入下一步。

7.根据权利要求6所述的膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法，其特征在于，

所述第二模拟应力与第一模拟应力的差别为：第二模拟应力与第一模拟应力差值的绝对值与第二模拟应力的比值；

所述阈值为3％。