[发明专利]一种阵列基板及液晶显示面板

说明书

本发明提供了一种阵列基板，包括：衬底，覆盖所述衬底的公共电极层，位于所述公共电极层之上的绝缘层，位于所述绝缘层上的像素电极层；所述像素电极层包括间隔设置的像素电极，相邻的像素电极之间设有透明锥状挡块，所述透明锥状挡块在垂直所述公共电极层方向上的轴截面为三角形。本发明在相邻像素电极之间设置锥状透明挡块，在给所述像素电极、公共电极之间施加电压时，它可以限制位于像素电极边缘范围内的液晶分子向垂直公共电极层的方向偏向，尽量使液晶分子处于平躺状态，使得该区域的光穿透率不致减少。本发明还提供了包含该阵列基板的液晶显示面板。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及液晶显示面板。

背景技术

近年来，液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)技术以其低功耗、低辐射、轻巧便捷的独特优势迅速得到普及。液晶显示面板的显示模式主要有VA(Virtical Alignment，垂直取向)、FFS(Fringe Field Switching，边缘场开关技术)模式等，其中FFS显示模式的液晶显示面板以其观看视角广及开口率高等特性，得到广泛应用。

FFS模式是通过阵列基板上的顶层像素电极11和底层公共电极12之间产生的边缘电场，使电极之间及电极上方的液晶分子能在平行于阵列基板的平面上发生转动。在像素电极11和公共电极12上施加电压后，液晶分子会受到来自水平y方向的电场分量Ey和z方向(垂直公共电极平面的方向)的电场分量Ez，(如图1所示)但在像素电极11的边缘位置，液晶分子受到的电场Ez较强，这会导致液晶分子除了水平旋转外，会受到较大的垂直方向的力。以正型液晶为例，液晶分子容易在边缘电场Ez的作用下站立起来，从而导致该区域的光损失，白画面的亮度降低，进而降低LCD面板的对比度。

发明内容

鉴于此，本发明提供了一种阵列基板及液晶显示面板，用于减小液晶分子在FFS模式液晶面板中所受到的垂直公共电极平面方向的力，以提高面板的对比度。

第一方面，本发明提供了一种阵列基板，包括衬底，覆盖所述衬底的公共电极层，层叠于所述公共电极层上的绝缘层，位于所述绝缘层上的像素电极层，所述像素电极层包括矩阵排列的数个像素电极，其中，相邻的像素电极之间设有透明锥状挡块，所述透明锥状挡块在垂直所述公共电极层方向上的轴截面为三角形。

本发明在相邻像素电极之间设置锥状透明挡块，当给所述像素电极、公共电极之间施加电压时，该透明锥状挡块可以限制位于像素电极边缘范围内的液晶分子向垂直所述公共电极层的方向偏向，尽量使液晶分子处于平躺状态，使得该区域的光穿透率不致减少。

其中，所述轴截面三角形的底角为30-60°。进一步优选为45°。底角在此范围内的透明锥状挡块，可以给液晶分子最高效的应力作用，较大地抑制液晶分子向垂直公共电极层的方向偏向。

其中，所述透明锥状挡块的顶点距相邻的所述像素电极之间的距离相等。此时，该轴截面为一等腰三角形。

其中，所述透明锥状挡块的高度为所述像素电极层的厚度的(8-12)倍。

其中，所述透明锥状挡块的高度为0.8-1.2μm。优选为0.9-1.1μm。

其中，所述轴截面三角形的底边长度为所述像素电极的间距的0.5-0.6。

其中，所述透明锥状挡块的材质为感光型负性光阻。它可以通过在所述像素电极之间涂布形成一定厚度的透明薄膜，然后采用预定形状的掩膜板(掩膜板的透光区的形状与锥状挡块的形状相匹配)进行曝光，最后经显影，在像素电极之间形成所述透明锥状挡块。

其中，所述像素电极层和所述公共电极层均由透明导电材料构成，所述透明导电材料选自氧化铟锡、氧化铟锌、掺铝氧化锌、掺氟二氧化锡和掺磷二氧化锡中的一种。