[发明专利]一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置

权利要求书

1.一种指纹识别单元，其特征在于，包括：依次层叠设置的第一介质层、第二介质层以及检测单元；

还包括：光源，所述光源发出的光射入所述第一介质层；

其中，所述第一介质层和/或所述第二介质层的折射率会随温度的变化发生变化，以使所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射的条件改变；

检测单元，用于检测所述光源发出的光是否透过所述第二介质层照射到所述检测单元上；

所述指纹识别单元还包括设置在所述检测单元远离所述第二介质层一侧的导热层；所述导热层与所述第一介质层和/或所述第二介质层接触；

其中，在手指指纹未接触指纹识别单元时，所述光源发出的光射入所述第一介质层后，在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射；在手指指纹接触指纹识别单元时所述第二介质层的折射率增大和/或所述第一介质层的折射率减小，所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生折射和反射；或者，

在手指指纹未接触指纹识别单元时，所述光源发出的光射入所述第一介质层后，在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生反射和折射；在手指指纹接触指纹识别单元时，所述第二介质层的折射率减小和/或所述第一介质层的折射率增大，所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射；

所述第一介质层的材料包括硅纳米晶或玻璃中的一种；所述第二介质层的材料包括硅纳米晶或玻璃中的一种，且所述第一介质层和所述第二介质层的材料不同。

2.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，所述检测单元包括开关单元；

所述开关单元用于在所述光源发出的光的照射下处于打开状态，在未受到所述光源发出的光的照射下处于关闭状态。

3.根据权利要求2所述的指纹识别单元，其特征在于，所述开关单元包括第一电极、第二电极以及与所述第一电极和所述第二电极均接触的半导体层。

4.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，所述检测单元用于检测特定波长的光是否照射到所述检测单元上，所述光源用于发出所述特定波长的光；其中，所述特定波长的光为非可见光。

5.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，所述指纹识别单元还包括覆盖所述检测单元的遮光层。

6.根据权利要求1所述的指纹识别单元，其特征在于，所述导热层的材料为遮光材料。

7.一种指纹识别装置，其特征在于，包括多个如权利要求1-6任一项所述的指纹识别单元。

8.根据权利要求7所述的指纹识别装置，其特征在于，所述指纹识别装置还包括：多条平行分布的第一电极线以及多条平行分布的第二电极线；所述第一电极线和所述第二电极线相互交叉且绝缘，所述第一电极线和所述第二电极线均与所述检测单元相连接。

9.根据权利要求8所述的指纹识别装置，其特征在于，所述指纹识别装置还包括信号输入单元和处理单元；

所述信号输入单元，用于向所述第一电极线输入信号；

所述处理单元，用于在所述第一电极线输入信号时，检测所述第二电极线上的信号变化，并根据所述第二电极线上的信号变化确定所述指纹识别单元所在位置对应的指纹的脊和谷，以获取指纹信息。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求7-9任一项所述的指纹识别装置。

11.一种如权利要求7-9任一项所述的指纹识别装置的指纹识别方法，其特征在于，包括：

根据检测单元检测到的光源发出的光是否透过第二介质层，确定指纹识别单元所在位置对应的指纹的脊和谷，以获取指纹信息。

12.根据权利要求11所述的指纹识别方法，其特征在于，所述指纹识别装置还包括：多条平行分布的第一电极线、以及多条平行分布的第二电极线；所述第一电极线和所述第二电极线相互交叉且绝缘，所述第一电极线和所述第二电极线均与所述检测单元相连；

所述指纹识别方法具体包括：逐行向所述第一电极线输入信号，并依次检测所述第二电极线上的信号变化，确定所述检测单元所在位置对应的指纹的脊和谷，以获取指纹信息。