[发明专利]一种气浮共面真空预压平台在审
申请号: | 201710889877.4 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN107703719A | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
发明(设计)人: | 尹自强;林剑;刘震;刘浩;柴宁 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 510062 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 气浮共面 真空 预压 平台 | ||
1.一种气浮共面真空预压平台,其特征在于,包括水平底座,固定在所述底座上且平行设置的两个第一基座,以及设在两个所述第一基座之间且延伸方向垂直于所述第一基座的第二基座,两个所述第一基座上均套有与其滑动连接的第一气浮导轨,所述第二基座上套有与其滑动连接的第二气浮导轨,且所述第二基座的两端分别与两个所述第一气浮导轨固定连接,还包括用于驱动所述第一气浮导轨沿所述第一基座滑动的第一直线电机,和用于驱动所述第二气浮导轨沿所述第二基座滑动的第二直线电机,所述第一直线电机的定子固定在所述底座上,所述第一直线电机的动子与所述第一气浮导轨连接,所述第二直线电机的定子安装在所述第二基座上,所述第二直线电机的动子与所述第二气浮导轨连接,所述第二气浮导轨为真空预压式气浮导轨。
2.根据权利要求1所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述底座上设有用于测量所述第一气浮导轨滑动位移的第一光栅尺组件;所述第二基座上还安装有用于测量所述第二气浮导轨滑动位移的第二光栅尺组件。
3.根据权利要求2所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述底座上还安装有用于限制所述第一气浮导轨位移的第一光电限位传感器;所述第二基座上安装有用于限制所述第二气浮导轨位移的第二光电限位传感器。
4.根据权利要求3所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述第一直线电机的定子设在所述第一基座的外侧,所述第一直线电机的动子上设有动子固定座,所述第一直线电机的动子通过所述动子固定座与所述第一气浮导轨的外侧连接。
5.根据权利要求4所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述第二基座的两端通过过渡板与两个所述第一气浮导轨的内侧连接。
6.根据权利要求1至5任意一项所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述第二基座的两侧底部安装有用于产生正压以使所述第二基座竖直悬浮的气浮支撑座。
7.根据权利要求6所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述第一基座的横截面为T型。
8.根据权利要求7所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述底座为大理石底座。
9.根据权利要求8所述的气浮共面真空预压平台,其特征在于,所述第一基座与所述底座螺栓连接,所述气浮支撑座与所述第二基座螺栓连接。
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