[发明专利]一种钧瓷盘的制作工艺

权利要求书

1.一种钧瓷盘的制作工艺，包括如下步骤：

将配制好的瓷泥制成盘型坯体的步骤；将盘型坯体进行预加热处理的步骤；将预加热处理后的坯体表面施釉的步骤，该步骤中所用的釉料为钧瓷釉料；将施釉后的坯体放入窑炉中烧制成型的步骤；

其特征在于：

所述将盘型坯体进行预加热处理的步骤，包括第一步的低温素烧步骤和第二步的静置处理步骤，操作方法如下：首先将盘型坯体放入低温窑内10—30分钟，低温窑内温度控制在50—150℃，完成低温素烧步骤，然后取出低温窑内的盘型坯体，并将其在室温通风环境下静置1—3小时，完成静置处理步骤；

所述将预加热处理后的坯体表面施釉的步骤，操作方法如下：将坯体放置在室温通风环境处，在盘型坯体的内表面均匀涂抹一层厚度为5—10㎜的瓷泥，采用丝网在盘型坯体的内表面压制出一个呈网格状的压痕，压痕的深度控制在1—3㎜，然后将处理后的盘型坯体放入50—80℃的保温室内静置10—20分钟，后在盘型坯体的内表面涂釉，保证釉料填满压痕的基础上控制无压痕区域涂抹釉料的厚度在0.5—1.5㎜，后在通风的环境下晾至20—30分钟，然后在盘型坯体的内表面和外周面均匀涂釉，此次涂抹釉料的厚度为2—6㎜，涂釉后进行烧制成型的步骤。

2.根据权利要求1所述的一种钧瓷盘的制作工艺，其特征在于：所述的钧瓷釉料为 月白釉、天青釉、天蓝釉或者钧花釉中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的一种钧瓷盘的制作工艺，其特征在于：所述的钧瓷釉料的 制备方法为：采用4.3 wt%氧化铜、13 wt %石英、10 wt %长石、1.7 wt %二氧化锡、16 wt %方解石、3 wt %滑石和52 wt %釉果，将以上比例的原料加入球磨机中研磨20-40个小时，后磨出的原料过150—200目筛收集，在收集的原料中加水的比例为水：料为1:1.5，制备完成。

4.根据权利要求1所述的一种钧瓷盘的制作工艺，其特征在于：所述将盘型坯体进 行预加热处理的步骤，操作方法如下：首先将盘型坯体放入低温窑内15分钟，低温窑内温度控制在65—85℃，然后取出低温窑内的盘型坯体，并将其在室温通风环境下静置1.5小时。

5.根据权利要求1所述的一种钧瓷盘的制作工艺，其特征在于：所述盘型坯体采用 灌浆法制成，制备方法为：按重量百分比取配制好的瓷土87.3%、水12%和玻璃胶 0.7%，混合搅拌18—24小时，过600目筛，倒入事先准备好的模具中，成型后取出放置5—10 分钟，修坯后备用。