[发明专利]构造体制造装置有效
申请号: | 201710890024.2 | 申请日: | 2013-10-25 |
公开(公告)号: | CN107708318B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 明渡纯;远藤聪人 | 申请(专利权)人: | 国立研究开发法人产业技术综合研究所 |
主分类号: | H05K3/12 | 分类号: | H05K3/12 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 郭放;许伟群 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 构造 体制 装置 | ||
提供一种能够抑制墨水向基材上的描绘线的宽度方向的润湿扩展,并实现高的高宽比的构造体、该构造体的制造方法和线图案。本发明提供一种构造体(10),具备:液滴重叠固化层(1),其通过使液滴在基材(50)的移动方向上倾斜并连续地重合而固化所构成;液滴流动固化层(3),其通过使所述液滴在所述液滴重叠固化层(1)上流动,且所述液滴不重叠地连续而固化所构成;凹陷部(5),形成在所述液滴重叠固化层(1)与所述液滴流动固化层(3)的边界区域。
(本申请是申请日为2013年10月25日、申请号为201380056926.6(国际申请号为PCT/JP2013/078916)的发明申请的分案申请。)
技术领域
本发明涉及形成在基材上的构造体、构造体的制造方法和线图案。特别地,本发明涉及喷出墨水而形成在基材上的构造体、该构造体的制造方法和线图案。
背景技术
电气/电子设备不仅追求能够应对高性能化和小型化、低成本化的设计/制造技术,还追求能够应对制品的多样化和制品周期的短期化的设计/制造技术。然而,要想将一般利用光蚀法掩蔽金属、非金属材料的薄膜并通过蚀刻等而形成的膜微细图案化,工序复杂,对图案的灵活性(flexibility)的限制也多,在具有大台阶差的部位难以形成连续的图案;另外,在非金属材料的情况下,蚀刻速度慢,而且由于蚀刻温度高,在蚀刻气体对基板、器件结构的损害、掩蔽材料的耐久性等方面具有很多制造上的问题。
近些年来,已开发出这样的方法,即:用喷墨方式将金属纳(nano)粒子墨水、金属醇盐(alkoxide)溶液等原料液滴化,在基板上直接描绘来形成微细图案,通过实施热处理等,无需蚀刻工序地来形成金属、陶瓷膜的微细构造体。通过将液滴微细化,也可形成1μm左右线宽的构造体。
在上述方法的情况下,形成在基板上的热处理前的微细图案并未结晶化或金属化,需要热处理来结晶化。然而,如果使膜堆积得厚再进行一次热处理,则由于膜随着结晶化而收缩,会产生裂纹、剥离,难以稳定地制造器件。另外,为了获得膜的厚度,需要在相同的部位反复进行多次堆积,所以难以高速地形成膜厚厚的构造体。
在以往的喷墨方法中,在液滴着落在基板上时,会由于因表面张力导致基板材料的浸润性、或因基板表面粗糙度所引起的毛细管效果而使液滴扩散,线宽成为液滴直径的数倍以上,所以难以进行更微细的描绘。为了克服这些问题,例如专利文献1记载了下述微细喷墨技术,即,通过将喷嘴开口尺寸微小化为10μm以下,并使用电场吸引使喷出液滴的尺寸成为以体积计的1/1000以下,而能够进行微米尺寸的线宽的微细描绘。
然而,在专利文献1的技术中,由于液滴尺寸非常小,所以从每个喷嘴向基板供给的材料数量非常微量,一次描绘的膜厚为数十nm程度,为了获得数微米以上的厚度,需要进行数十次以上的重复涂覆。因此,制造时间变长,而不能获得实用的生产能力(through-put),且由于喷嘴被微细化,所以存在容易引起堵塞的实用上的问题。
另一方面,例如,专利文献2记载了一种技术,即,将着落在基板上的墨水的微小液滴的液滴直径达到最大容许液滴直径的时间设为容许经过时间,并设定为使在从着落时起经过容许经过时间时,着落于基板上的微小液滴从着落位置移动至照射位置的扫描速度,从着落时起经过容许经过时间时、即着落后的微小液滴位于照射位置时,对该微小液滴照射激光,据此对形成的构造体的形状进行控制。然而,由于专利文献2的技术向着落时的微小液滴照射激光,如果激光加热不充分,则液滴不能充分干燥固化,而且,如果激光功率强,则存在因墨水突然沸腾现象而产生微小孔和凹凸等情况,条件的最优化困难,进一步的构造体的微细化困难。
专利文献1
专利文献1:特开2004-165587号公报
专利文献2:特开2009-101356号公报
发明内容
(发明所要解决的问题)
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