[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法和液晶显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括衬底，以及设置在衬底上的彩膜膜层；沿所述彩膜膜层远离衬底的方向，所述彩膜膜层包括层叠设置的保护层和功能层；其中，所述功能层的材质为二氧化硅；所述功能层包括紧密且倾斜排列的二氧化硅分子；所述功能层中的二氧化硅分子与垂直所述衬底的方向的夹角为θ，所述θ为锐角。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述功能层的厚度为50-100nm。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，当所述θ≤60°，所述功能层用于使设置在所述功能层上的液晶分子垂直所述衬底取向；当所述θ＞85°，所述功能层用于使所述液晶分子以平行所述二氧化硅分子的方式取向。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述功能层采用斜向蒸镀工艺制备得到。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜膜层还包括黑色矩阵层和RGB色层；所述RGB色层与所述黑色矩阵层均设置在所述衬底之上；所述RGB色层包括阵列分布的多个色阻，相邻的两个色阻间隔有黑色矩阵，所述保护层位于所述黑色矩阵层和所述RGB色层之上。

6.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供衬底，在所述衬底上形成保护层；

采用斜向蒸镀工艺在所述保护层上形成功能层，得到彩膜基板；其中，所述功能层的材质为二氧化硅。

7.如权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，形成所述功能层的工艺如下：

在真空容器中放入蒸镀源，在所述蒸镀源的斜上方放置形成有保护层的衬底，使所述蒸镀源沿与所述衬底的法线方向成α角进行蒸镀，在1×10^-2Pa～1×10^-4Pa的压力下成膜；其中，α角为蒸镀角，α角为锐角。

8.如权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述功能层包括紧密且倾斜排列的二氧化硅分子；所述功能层中的二氧化硅分子与垂直所述衬底的方向的夹角为θ，所述θ为锐角。

9.如权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在所述保护层之下还形成有所述黑色矩阵层和所述RGB色层；所述RGB色层与所述黑色矩阵层均设置在所述衬底之上；所述RGB色层包括阵列分布的多个色阻，相邻色阻之间被所述黑色矩阵层间隔开来。

10.一种液晶显示面板，包括如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板，阵列基板，以及夹持于彩膜基板与阵列基板之间的液晶层。