[发明专利]一种含钐铈基抛光粉及其制备工艺

权利要求书

1.一种含钐铈基抛光粉，其特征在于：其成份按摩尔比计：Sm₂O₃/TREO：1.4×10^-4-2.9×10^-2， Nd₂O₃/TREO：2.97×10^-4-7.43×10^-3，余量为CeO₂/TREO：0.508%-0.58%。

2.一种如权利要求1所述的含钐铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于：其生产工艺为

a、将稀土的化合物配制为盐溶液，该盐溶液的摩尔浓度为1.16mol/ L～1.74mol/L；

b、反应前配制反应底液：向反应容器内加入1m³水，并加入100L步骤a中配制的稀土盐溶液，使作为底液的稀土盐溶液摩尔浓度为0.12-0.17mol/L，过量的稀土盐溶液以保持沉淀过程在弱酸性环境下进行；

c、配制碳酸盐沉淀剂，调整碳酸氢根浓度为步骤a中得到的稀土盐溶液的摩尔浓度的3-3.5倍；

d、将反应容器内液体升温至40～55℃，同时向反应容器内加入步骤a中得到的稀土盐溶液及步骤c中得到的沉淀剂，稀土盐溶液及沉淀剂流量比值为1:1～1:2；

e、加入400L后停止稀土盐溶液的加入，保持沉淀剂的继续加入，直至体系pH值为7.0，整个合成过程控制时间为3～5h；

f、将沉淀物洗涤过滤，在1000～1100℃煅烧5～8h；

g、将煅烧产物破碎分级可获得所述的含钐铈基抛光粉。

3.根据权利要求2所述的含钐铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于：将稀土化合物配制为稀土硝酸盐、稀土硫酸盐、稀土氯化物或稀土碳酸盐的盐溶液。