[发明专利]聚焦监控组件有效
申请号: | 201710896853.1 | 申请日: | 2017-09-28 |
公开(公告)号: | CN107632499B | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 龚成波 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02F1/13 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚焦 监控 组件 | ||
1.一种聚焦监控组件,用于曝光制程,其特征在于,包括层叠设置的掩膜版和基板,且所述掩膜版设置于所述基板的正上方,所述掩膜版正上方还设有光源,所述光源的光线垂直射入所述掩膜版,所述掩膜版上设有第一图案和多个第一聚焦标识,所述光源的光线将所述第一图案和所述第一聚焦标识曝光至所述基板,以使所述基板上形成第二图案和多个第二聚焦标识,所述第二图案为所述第一图案在所述基板上的投影,所述第二聚焦标识为所述第一聚焦标识在所述基板上的投影,所述第一图案内部的最小间隙为第一间隙,所述第一聚焦标识内部设有第二间隙,所述第二间隙的尺寸小于或等于所述第一间隙的尺寸,所述聚焦监控组件还包括监控模块,所述监控模块监控所述第二聚焦标识的形状变化以判断所述曝光制程的异常。
2.如权利要求1所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述第一聚焦标识包括四个相同的第一聚焦单元、第二聚焦单元、第三聚焦单元和第四聚焦单元,所述第一聚焦单元为长条形,所述第二聚焦单元垂直于所述第一聚焦单元的长度方向,并设置于所述第一聚焦单元长度方向的中点的垂线的延长线上,所述第三聚焦单元设置于所述第一聚焦单元一侧并与所述第一聚焦单元的长度方向的夹角呈45°,所述第四聚焦单元设置于所述第一聚焦单元一侧并与所述第一聚焦单元的长度方向的夹角呈45°,所述第三聚焦单元和所述第四聚焦单元对称设置于所述第二聚焦单元两侧,所述第二聚焦单元、所述第三聚焦单元和所述第四聚焦单元设置于所述第一聚焦单元的同一侧。
3.如权利要求2所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述第一聚焦单元包括至少3条相同的第一聚焦带,至少3条所述第一聚焦带平行设置,相邻两条所述第一聚焦带之间的距离为第一间隙。
4.如权利要求1所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述监控模块包括拍照单元,所述拍照单元用于拍摄所述基板并得到所述第二聚焦标识的图片,所述图片包括所述曝光制程异常的信息,所述监控模块接收所述信息并判断是否对异常进行处理。
5.如权利要求3所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述第一聚焦带沿其长度方向的长度的范围为8~12μm,垂直于所述第一聚焦带的长度方向的宽度的范围为大于或等于3μm。
6.如权利要求2所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述第一聚焦标识相对所述掩膜版的高度的范围为1~2μm。
7.如权利要求1所述的聚焦监控组件,其特征在于,多个所述第一聚焦标识阵列排列于所述掩膜版上。
8.如权利要求7所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述第一聚焦标识为四个,且四个所述第一聚焦标识分别设于所述掩膜版的四角。
9.如权利要求8所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述聚焦监控组件还包括设于所述掩膜版中心的一个第一聚焦标识,设于所述掩膜版四角的四个所述第一聚焦标识相对设于所述掩膜版中心的所述第一聚焦标识中心对称。
10.如权利要求1所述的聚焦监控组件,其特征在于,所述第一聚焦标识粘贴于所述掩膜版上,所述基板上涂布有光阻,所述第二聚焦标识形成于所述光阻上。
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