[发明专利]一种三价铬镀层及其制备方法

权利要求书

1.一种三价铬镀层的制备方法，其特征在于，至少包括以下步骤：将基材浸入三价铬电镀液中，以所述的基材为阴极进行电镀，电镀温度为20～45℃，电流密度为6A/dm²～25A/dm²，电镀时间为5～30min；三价铬镀层镀覆在所述的基材上；所述的基材表面至少包含有一导电层；

所述的三价铬电镀液，至少包括以下组分：三价水溶性铬盐：15～20重量份；钴盐：12～16重量份；导电盐：20～35重量份；配位剂：4～6重量份；缓冲剂：7～10重量份；黑化剂：0.5～1.6重量份；光亮剂：0.01～0.5重量份；去离子水：100重量份；

所述的黑化剂为半胱氨酸与2-氨基苯并噻唑-7-甲酸的混合物，所述的半胱氨酸与2-氨基苯并噻唑-7-甲酸的质量比为1：0.1～0.5；

所述的光亮剂为2-氨基-3-(3-羟基-硫代丙酰基)-苯磺酸。

2.如权利要求1所述的三价铬镀层的制备方法，其特征在于，所述的三价水溶性铬盐为硫酸铬；所述的钴盐选自硫酸钴、硝酸钴、乙酸钴中的一种或多种；所述的导电盐为硫酸钠与硫酸铵的混合物，所述的硫酸钠与硫酸铵的质量比为1：0.3～1.2。

3.如权利要求1所述的三价铬镀层的制备方法，其特征在于，所述的配位剂为甲酸、甘氨酸、苹果酸的混合物，所述的甲酸、甘氨酸与果酸的质量比为1：0.5～3：0.2～2。

4.如权利要求1所述的三价铬镀层的制备方法，其特征在于，所述的缓冲剂为硼酸和磷酸二氢钠的混合物，所述的硼酸与磷酸二氢钠的质量比为2～6：1。

5.如权利要求1所述的三价铬镀层的制备方法，其特征在于，所述的三价铬电镀液还包括助剂，所述的助剂选自稳定剂、分散剂、走位剂中的一种或多种。

6.一种三价铬镀层，其特征在于，以权利要求1～5任一项所述的制备方法制备得到；其组成至少包括：铬、钴、氢、氧、硫、磷元素；所述的基材为导电材质的基材或表面有一导电层的不导电材质的基材；其中，导电材质的基材以及不导电材质的基材表面的导电层选自铁、不锈钢、铜、镍、银、金、导电陶瓷中的一种或多种的合金；不导电材质的基材为塑料、陶瓷、玻璃中的任一种。