[发明专利]OLED显示器的制作方法及OLED显示器

权利要求书

1.一种OLED显示器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供TFT基板(100)；

所述TFT基板(100)包括衬底基板(110)、及设于衬底基板(110)上的阳极层(120)；

步骤S2、在所述TFT基板(100)上形成防反射层(200)，所述防反射层(200)形成于阳极层(120)上；对所述防反射层(200)进行图案化，形成多个暴露阳极层(120)的第一开口(210)；

步骤S3、在所述TFT基板(100)及防反射层(200)上形成一层负性光阻材料层(800)，对所述负性光阻材料层(800)进行曝光及显影制程，形成像素定义层(300)；

所述像素定义层(300)上设有贯穿像素定义层(300)且对应位于多个第一开口(210)上的多个第二开口(310)，多个第二开口(310)及其下方的第一开口(210)在TFT基板(100)上限定出多个像素区域(101)；

步骤S4、在所述TFT基板(100)的多个像素区域(101)内形成OLED发光层(400)；

所述阳极层(120)为两层氧化铟锡夹一层银的结构。

2.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述防反射层(200)的材料为有机光阻；

所述步骤S2中对防反射层(200)进行图案化具体为：对防反射层(200)进行曝光及显影制程，在防反射层(200)上形成多个第一开口(210)。

3.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述防反射层(200)的材料为无机遮光材料；

所述步骤S2中对防反射层(200)进行图案化具体为：在防反射层(200)上涂布光阻层，对光阻层进行曝光及显影，以显影后的光阻层为遮挡对防反射层(200)进行蚀刻，在防反射层(200)上形成多个第一开口(210)。

4.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述防反射层(200)的材料为吸光材料。

5.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述步骤S4中通过打印或蒸镀的方式在所述TFT基板(100)的多个像素区域(101)内形成OLED发光层(400)。

6.如权利要求5所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述步骤S4中通过打印的方式在所述TFT基板(100)的多个像素区域(101)内形成OLED发光层(400)；

所述负性光阻材料层(800)的材料为疏水性材料。

7.一种OLED显示器，其特征在于，包括：

TFT基板(100)；所述TFT基板(100)包括衬底基板(110)、及设于衬底基板(110)上的阳极层(120)；

设于所述TFT基板(100)上的防反射层(200)，所述防反射层(200)上设有多个暴露阳极层(120)的第一开口(210)；所述防反射层(200)形成于阳极层(120)上；

设于所述防反射层(200)上的像素定义层(300)；所述像素定义层(300)上设有贯穿像素定义层(300)且对应位于多个第一开口(210)上的多个第二开口(310)，多个第二开口(310)及其下方的第一开口(210)在TFT基板(100)上限定出多个像素区域(101)；

以及设于所述TFT基板(100)的多个像素区域(101)内的OLED发光层(400)；

所述像素定义层(300)采用负性光阻材料制作；

所述阳极层(120)为两层氧化铟锡夹一层银的结构。

8.如权利要求7所述的OLED显示器，其特征在于，所述防反射层(200)的材料为遮光材料或吸光材料。