[发明专利]高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710906437.5 申请日: 2017-09-29
公开(公告)号: CN107740189B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 沈龙海;吕伟 申请(专利权)人: 沈阳理工大学
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B29/60;C30B25/02
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 代理人: 马海芳
地址: 110159 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: al 组分 alxga1 xn 三元 合金 微晶球 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球,其特征在于,该高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球是不同Al组分纤锌矿结构AlxGa1-xN三元合金晶体,Al组分可调范围为0.77≤x<1,该微晶球具有规则且大小均一的球状结构,平均直径为5.0μm。

2.如权利要求1所述的高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球,其特征在于,所述的Al组分可调节的方式为,根据反应温度和Ga液同沉积有薄层铝粉的硅基片的距离不同可以进行调节。

3.权利要求1所述的高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1,预沉积薄层铝粉

(1)对硅基片进行超声处理,得到超声后的硅基片;

将铝粉加入试剂中,进行超声震荡分散均匀,得到超声后的铝粉混合液;

(2)将超声后的硅基片放入超声后的铝粉混合液中,自然风干,得到沉积有薄层铝粉的硅基片;其中,薄层铝粉的沉积厚度为0.5~1.0mm;

步骤2,制备准备工作

将金属Al粉均匀平铺于反应舟一端,将沉积有薄层铝粉的硅基片置于金属Al粉正上方垂直距离为5~6mm处,沉积有薄层铝粉的一面朝上;

将Ga液滴置于反应舟另一端,Ga液与沉积有薄层铝粉的硅基片靠近Ga液端的水平距离为10~15mm;其中,按质量比,金属Al粉:Ga=(1~2):1;

将整个反应装置按上述方法布置好后,备用;

步骤3,抽真空,通气,加热

(1)将布置好后的反应装置放入一端开口的石英试管中,其中,布置好后的反应装置的轴线和一端开口的石英试管的轴线平行,并且反应舟放入Ga液的一端远离石英试管的开口;

(2)将装有反应装置的石英试管置于水平石英管式炉的反应区,密闭,开始抽真空;

当水平石英管式炉的真空度≤5Pa,通入氩气,氩气的通入流量为300~700sccm,氩气流保持10~15min后,调节氩气通入流量为40~60sccm,同时,通入氨气,按流量比,氩气:氨气=1:1,然后开始对反应系统进行加热,升温速率为30~50℃/min,当反应系统的炉温达到设定温度为950~1000℃时,保持1~3h后,停止加热;

(3)随炉冷却,当温度降至650~750℃,关闭氨气流量,持续通入氩气,保证氩气氛围,随炉冷却至室温;

(4)完全冷却后,取出反应装置,沉积在薄层铝粉硅基片表面上物质即为AlxGa1-xN三元合金微晶球。

4.如权利要求3所述的高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球的制备方法,其特征在于,所述的步骤1(1)中,所述的对硅基片进行超声处理具体步骤为:用去离子水或乙醇对硅基片进行超声清洗。

5.如权利要求3所述的高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球的制备方法,其特征在于,所述的步骤1(1)中,所述的铝粉的纯度为≥99.999%,其平均粒径为5~10μm。

6.如权利要求3所述的高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球的制备方法,其特征在于,所述的步骤1(1)中,所述的铝粉超声震荡的试剂为乙醇、甲醇、丙酮或己烷中的一种或几种混合,试剂的加入量为以铝粉在试剂中充分分散为准。

7.如权利要求3所述的高Al组分AlxGa1-xN三元合金微晶球的制备方法,其特征在于,所述的步骤1(1)中,所述的超声震荡的时间为10~60min。

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