[发明专利]掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法

说明书

本发明实施例提供一种掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法，涉及蒸镀技术领域，用于改善掩膜版与待蒸镀基板之间的贴合不良，提高蒸镀效果。所述掩膜装置包括铁磁性材料的掩膜版，所述掩膜版包括：至少一个蒸镀区域以及至少一个非蒸镀区域；所述蒸镀区域设置有沉积通孔；所述非蒸镀区域包括与所述蒸镀区域相邻的过渡区域，所述过渡区域设置有过渡孔，所述过渡孔的体积小于所述沉积通孔的体积，且从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述过渡孔的体积逐渐减小。上述掩膜装置适用于蒸镀设备中。

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法。

背景技术

人的感觉器官中接受信息最多的是视觉器官(眼睛)，在生产和生活中，人们需要越来越多地利用丰富的视觉信息，因而显示技术在当今人类社会中扮演着非常重要的角色。显示技术自出现至今，技术发展也非常迅猛，随着社会的发展和人类对物质生活需求的不断提高，当今显示技术正在朝着高对比度、高分辨力、全彩色显示、低功耗、可靠性高、长寿命以及薄而轻的方向快速迈进。

其中，有机发光二极管(OLED)显示由于具有自发光、响应速度快、视角宽、高清晰、高亮度、抗弯曲能力强、低功耗等优点，逐渐成为LCD显示面板强有力的竞争对手，被誉为下一代梦幻显示技术。

真空蒸镀技术作为目前OLED面板制备的一种主要工艺制程，如何改善掩膜版与待蒸镀基板之间的贴合不良，提高蒸镀效果，是业内当前面临的主要技术难题。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法，用于改善掩膜版与待蒸镀基板之间的贴合不良，提高蒸镀效果。

第一方面，本发明提供一种掩膜装置，所述掩膜装置包括铁磁性材料的掩膜版，所述掩膜版包括：

至少一个蒸镀区域以及至少一个非蒸镀区域；

所述蒸镀区域设置有沉积通孔；

所述非蒸镀区域包括与所述蒸镀区域相邻的过渡区域，所述过渡区域设置有过渡孔，所述过渡孔的体积小于所述沉积通孔的体积，且从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述过渡孔的体积逐渐减小。

第二方面，本发明提供一种蒸镀设备，包括上述本发明第一方面所述的掩膜装置。

第三方面，本发明提供一种蒸镀方法，所述蒸镀方法包括：

提供掩膜母版；

所述掩膜母版具有至少一个蒸镀区域以及至少一个非蒸镀区域，

在所述蒸镀区域内形成沉积通孔，

在所述过渡区域内形成过渡孔，以形成掩膜版；其中，所述过渡孔的体积小于所述沉积通孔的体积，从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述过渡孔的体积逐渐减小。

如上所述的方面和任一可能的实现方式的有益效果如下：

本实施例中，过渡孔的体积小于沉积通孔的体积，可以理解的是，在蒸镀区域与过渡区域的交界处，过渡区域中与该交界处相邻的过渡孔的体积，小于蒸镀区域中与该交界处相邻的沉积通孔的体积，并且，从蒸镀区域至非蒸镀区域的方向上，过渡孔的体积逐渐减小，也就是说，尽可能的减小沉积通孔到过渡孔的体积变化，减小由磁作用力产生的排斥力，避免在交界处突变的产生，进而改善待蒸镀基板与掩膜版之间的贴合问题，提高蒸镀效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例所提供的蒸镀原理示意图；