[发明专利]一种投影物镜

权利要求书

1.一种投影物镜，用于将物方的图像投影在像方上，其特征在于，所述投影物镜从物方开始沿光轴依次包括：

具有正光焦度的第一透镜组，所述第一透镜组依次设置有由第二透镜和第三透镜组成且具有负光焦度的第一负透镜组、以及由第四透镜和第五透镜组成且具有正光焦度的透镜组，在所述第一负透镜组的透镜中所述第二透镜靠近所述物方的一侧的镜面为非球面镜面；

具有负光焦度的第二透镜组，所述第二透镜组依次设置有具有负光焦度的第六透镜、第一双凹形透镜组以及第九透镜，所述第一双凹形透镜组由第七透镜和第八透镜这两片双凹形负光焦度透镜组成，在所述第一双凹形透镜组靠近所述像方一侧的透镜中所述第八透镜靠近物方一侧的镜面为非球面镜面；

具有正光焦度的第三透镜组，所述第三透镜组依次设置有第十透镜和第十一透镜，所述第十透镜和第十一透镜均具有正光焦度；

具有负光焦度的第四透镜组，所述第四透镜组依次设置有具有负光焦度的第十二透镜和第二双凹形透镜组，所述第二双凹形透镜组由第十三透镜和第十四透镜这两片双凹形负光焦度透镜组成，在所述第二双凹形透镜组靠近所述物方一侧的透镜中所述第十三透镜靠近所述像方一侧的镜面为非球面镜面；

以及具有正光焦度的第五透镜组，所述第五透镜组依次设置有三个双凸形正透镜、由第十八透镜构成的第三双凹形透镜组、一个双凸形正透镜以及五个弯月形透镜，所述第十八透镜中靠近所述像方一侧的镜面为非球面镜面；

所述投影物镜的总长不超过1100mm，场曲小于60nm，像方视场尺寸不小于26mm×16mm，像散小于50nm，畸变小于或等于4nm。

2.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第一双凹形透镜组的透镜排布在所述光轴贯穿所述第二透镜组光路的中点两侧，所述第一双凹形透镜组的透镜排布位置关于所述光路的中点对称。

3.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第三透镜组透镜使用材料的折射率小于1.6。

4.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第四透镜组至少包括一片弯月形负光焦度透镜。

5.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第五透镜组包括第三子透镜组、第四子透镜组和第五子透镜组，所述第三子透镜组包括至少两片透镜，所述第四子透镜组至少包括三片透镜，所述第五子透镜组至少包括五片透镜。

6.如权利要求5所述的一种投影物镜，其特征在于，所述投影物镜的光阑位于所述第三子透镜组和第四子透镜组之间。

7.如权利要求5所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第三子透镜组和所述第四子透镜组均为正光焦度的透镜组。

8.如权利要求3所述的一种投影物镜，其特征在于，所述第三透镜组透镜使用的材料为折射率1.47的二氧化硅。

9.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述投影物镜包括物方平行平板组和像方平行平板组，所述物方平行平板组设置于所述光轴靠近所述物方一侧，所述像方平行平板组设置于所述光轴靠近所述像方一侧。

10.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述投影物镜的物方工作距大于32mm、像方工作距大于8mm。

11.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述非球面镜面的最大非球面度小于300um。

12.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述投影物镜的物方远心小于6mrad，像方远心小于3mrad。

13.如权利要求1所述的一种投影物镜，其特征在于，所述投影物镜的放大倍率为-0.25，像方的数值孔径为0.65。

14.一种使用如权利要求1-13任一项所述投影物镜的曝光装置，其特征在于，包括：掩模台，用于承载掩模板；工件台，承载工件进行曝光；光源，发出曝光光束，所述曝光光束经过掩模台和所述投影物镜后将所述掩模板的图形投影至所述工件上；

所述投影物镜中非球面镜面的表达式如下：

其中，Z为所述非球面镜面的曲线表达式，Y为半口径尺寸，CURV为曲率，A为四阶常量系数，B为六阶常量系数，C为八阶常量系数，D为十阶常量系数，E为十二阶常量系数，F为十四阶常量系数，G为十六阶常量系数，H为十八阶常量系数，J为二十阶常量系数，K为锥度系数。