[发明专利]含有具多层护膜的低辐射涂层的涂层制品及制备其的方法在审
申请号: | 201710916735.2 | 申请日: | 2013-02-11 |
公开(公告)号: | CN107500567A | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
发明(设计)人: | 穆罕默德·伊姆兰;弗朗西斯·维尧姆;布伦特·博伊斯 | 申请(专利权)人: | 葛迪恩实业公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 刘培培 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 多层 辐射 涂层 制品 制备 方法 | ||
1.一种涂层制品,包含由玻璃基板支撑的层系,所述层系包括:
所述玻璃基板上的第一介质层;
所述玻璃基板上的含银的红外反射层,在所述第一介质层之上;
所述玻璃基板上的接触层,在所述红外反射层之上并与其直接接触;
所述玻璃基板上的含氮化硅的第二介质层,在所述接触层之上;
所述玻璃基板上的含铌锆合金的层,在所述含氮化硅的第二介质层之上并与其直接接触,其中所述含铌锆合金的层含有2-15原子百分比的锆;
所述玻璃基板上的含氮化硅的第三介质层,在所述含铌锆合金的层之上并与其直接接触;
所述玻璃基板上的含氧化锆的层,在所述含氮化硅的第三介质层之上并与其直接接触,从而所述含铌锆合金的层位于所述含氮化硅的第二介质层和所述含氮化硅的第三介质层之间并与其直接接触,
其中,所述含铌锆合金的层的厚度为1-3nm,且
其中,所述含氧化锆的层的厚度为3-8nm,
其中,所述含铌锆合金的层比所述含氮化硅的第二介质层和所述含氮化硅的第三介质层中的每一个薄,并且比所述含银的红外反射层薄,
其中,所述含氧化锆的层比所述含氮化硅的第二介质层和所述含氮化硅的第三介质层中的每一个薄,且
其中所述涂层仅包含一个银基红外反射层。
2.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述第一介质层包括氮化硅。
3.如权利要求1所述的涂层制品,进一步包括接触层,在所述红外反射层之下并与其直接接触。
4.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述含铌锆合金的层基本上为金属。
5.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述含铌锆合金的层为金属。
6.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述涂层制品的透光率为40-60%。
7.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述涂层制品为玻璃窗。
8.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述层系的表面电阻为20ohms/m2以下。
9.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述含铌锆合金的层被氧化。
10.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述含铌锆合金的层中锆/铌的比值为0.001-0.60。
11.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述含铌锆合金的层中锆/铌的比值为0.004-0.50。
12.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述含铌锆合金的层由铌锆合金构成。
13.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述涂层制品包括绝缘玻璃窗单元、单片玻璃窗、或层压玻璃窗。
14.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述含铌锆合金的层不接触任何含银或金的红外反射层。
15.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述涂层制品被热处理。
16.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述接触层包含NiCr。
17.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述接触层包含镍和钼。
18.如权利要求1所述的涂层制品,其中,所述接触层包含镍、铬和钼。
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