[发明专利]窄带反射膜的制备方法

权利要求书

1.一种窄带反射膜的制备方法，其特征在于，所述窄带反射膜包括透明基材层（10）和反射膜系，反射膜系包括n个高低折射率材料单元，所述高低折射率材料单元依次层叠所述透明基材层（10）的一个表面或两个相对的表面上，各所述高低折射率材料单元包括一个高折射率材料层（21）和与之配对的一个低折射率材料层（22），所述制备方法包括：

提供反射膜系设计模块，所述反射膜系设计模块中设定：所述反射膜系中至少存在一个膜系结构为│(α₁Hβ₁Lα₂Hβ₂L... α_iHβ_iL...α_mHβ_mL) │的膜堆（20），其中，H表示所述高折射率材料层（21），L表示所述低折射率材料层（22），n、m为正整数，且2＜n≤150，3＜m≤50，m＜n，同一个所述膜堆（20）中的α₁，α₂，...，α_m以及β_m，...，β₂，β₁各自独立地满足同一个余弦波形或正弦波形上的同一递变规律；对于第i个所述高低折射率材料单元α_iHβ_iL，1≤i≤n,α_i表示第i个所述高折射率材料层（21）沿与所述透明基材层（10）垂直的方向上光学厚度占λ/4的倍数，β_i表示第i个所述低折射率材料层（22）沿与所述透明基材层（10）垂直的方向上光学厚度占λ/4的倍数，λ为膜堆的监控波长；

根据上述反射膜系设计模块的设定，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于所述透明基材层（10）的表面，干燥后得到所述膜堆（20），

采用多层涂布设备（40）实施所述多层同时涂布工艺，所述多层涂布设备（40）包括：

所述反射膜系设计模块；

流量换算模块，与所述反射膜系设计模块相连，根据所述反射膜系设计模块中设定的厚度计算所述第一涂料和所述第二涂料的流量；

可旋转的涂布轴（430），所述涂布轴（430）用于承载所述透明基材层（10）；

涂布模块，与所述流量换算模块电连接根据所述流量换算模块的流量控制所述第一涂料和第二涂料在所述涂布模块的涂布量，

所述涂布模块的上表面为沿靠近所述涂布轴（430）的方向向下倾斜的滑动面（420），且所述涂布模块包括多个涂布头（410），且各所述涂布头（410）具有出口的表面构成所述滑动面（420），所述涂布头（410）的出口沿远离所述涂布轴（430）的方向平行排列，所述涂布轴的旋转轴与所述涂布头的排列方向垂直，

所述多层同时涂布工艺实施时，所述第一涂料以及所述第二涂料间隔地从不同的所述涂布头（410）的出口流至所述滑动面（420）后流动至所述涂布轴（430）上的所述透明基材层（10）上。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，设置同一个所述膜堆中的所述第一涂料相同，第二涂料相同；设置不同的所述膜堆中的第一涂料相同或不同，第二涂料相同或不同。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述多层同时涂布工艺的涂布速度为10~300m/min。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述滑动面（420）的与水平面的夹角为2~15°。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高折射率材料层（21）的折射率为1.5~5.0，所述低折射率材料层（22）的折射率为1.1~1.5。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述高折射率材料层（21）的折射率为1.65~3.0。

7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，所述低折射率材料层（22）的折射率为1.25~1.48。