[发明专利]化学气相沉积装置及其用途

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，包括：

管状室，所述管状室为卧式的并设置有底侧和顶侧及轴向方向，所述管状室被配置用于沿所述轴向方向布置具有垂直的多个导电板并被配置用于支承多个基板的基座，所述管状室设置有用于使在气相中的化合物进入所述管状室的至少一个进口并设置有入口，所述基座能够通过所述入口进入所述管状室和从管状室移除，所述轴向方向实质上平行于基座进入所述管状室内和被从所述管状室移除所沿着的方向；

加热工具，所述加热工具布置在所述管状室的外侧并且被配置用于借助于辐射来发射热，所述加热工具被配置用于根据所述管状室内的角度变化剖面来提供辐射，所述角度加热剖面包括第一角区和第二角区，并且其中在所述第一角区中的热通量高于在所述第二角区中的热通量，并且其中所述第一角区包括所述管状室的顶侧和/或底侧的区域，并且其中所述第二角区包括所述多个导电板的外板所面向的所述管状室的内壁的区域；以及

控制器，所述控制器用于控制所述管状室内的状态，包括温度和组成，

其中，所述加热工具包括第一加热丝，所述第一加热丝的至少一部分布置在所述管状室的所述轴向方向上，所述第一加热丝设置有曲折形状，使得所述第一加热丝包括沿所述轴向方向延伸的多个部分，所述部分实质上彼此平行地布置，

其中，在所述第一加热丝的第一相邻部分和第二相邻部分之间的相互距离取决于所述第一加热丝的所述第一相邻部分和第二相邻部分的角位置，使得所述相互距离在所述第一角区中比在所述第二角区中小。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，所述第一角区被配置用于在实质上平行于所述基座的所述导电板的方向上提供辐射，并且其中所述第二角区被配置用于在实质上垂直于所述基座的所述导电板的方向上提供辐射。

3.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，所述第一加热丝对于所述管状室实质上周向地延伸。

4.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，存在第二加热丝，所述第二加热丝包括曲折形状并且相对于所述第一加热丝沿所述轴向方向移位。

5.根据权利要求4所述的化学气相沉积装置，其中，沿着所述轴向方向彼此相邻的存在的加热丝的数量在2-10的范围内。

6.根据权利要求4所述的化学气相沉积装置，其中，所述控制器被配置用于基于来自一个或更多个传感器的输入来定义通过单独加热丝的电流。

7.根据权利要求4所述的化学气相沉积装置，其中，存在补充加热丝，所述补充加热丝包括曲折形状，并且沿着所述轴向方向布置在所述第一加热丝和第二加热丝之间，其中所述第一加热丝和所述补充加热丝被布置成使得它们在所述轴向方向上具有重叠。

8.根据权利要求7所述的化学气相沉积装置，其中，当在角位置处观看时，所述第二加热丝的一部分的顶端存在于所述第一加热丝的第一部分和第二部分之间。

9.根据权利要求7所述的化学气相沉积装置，其中，所述补充加热丝和所述第二加热丝布置成使得它们在所述轴向方向上具有重叠。

10.根据权利要求7所述的化学气相沉积装置，其中，所述控制器设置有用于在一段时间内平衡所有加热丝的使用的程序。

11.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，所述角度剖面使得在所述第一角区和所述第二角区中的热通量的比率至少为1.5。

12.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，还包括用于在所述管状室内生成等离子体的工具。

13.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，所述控制器和所述加热丝被配置用于在15分钟内将所述管状室中的温度从处理温度斜升到沉积温度。