[发明专利]可用于单面打磨的游星轮在审
申请号: | 201710925256.7 | 申请日: | 2017-10-03 |
公开(公告)号: | CN107498456A | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
发明(设计)人: | 陆海锋 | 申请(专利权)人: | 德清晶生光电科技有限公司 |
主分类号: | B24B37/30 | 分类号: | B24B37/30 |
代理公司: | 浙江英普律师事务所33238 | 代理人: | 王炎军 |
地址: | 313200 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 单面 打磨 游星 | ||
技术领域
本发明涉及一种研磨装置,特别是一种可用于单面打磨的游星轮。
背景技术
现有的游星轮大部分被设计用于光学器件的双面抛光,即游星轮的厚度会小于光学器件的厚度,在某些情况下若仅需研磨一个面,使用者一般会选取厚度较厚的游星轮从而保证光学器件的另一个面不被研磨,但该种方式效率较低,抛光设备的两面研磨盘不能被有效利用。中国专利公告文本CN103158054B公开了两种在双面研抛机上实现的单面抛光方法,其采用粘合剂的方式将两片待研磨光学器件粘合,从而仅研磨两光学器件的各一个面,该种方法同样对于游星轮的厚度选取有一定要求,并且由于光学器件的另一个无需研磨的面仍需进行磨平等处理,通过该种研磨方式并不能一步完成。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用于单面打磨的游星轮,通过该游星轮可以适合不同厚度的光学器件研磨工作,且在单面研磨同时另一面能完成磨平工作。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是
一种可用于单面打磨的游星轮,其结构为:所述游星轮由至少一个单元轮组成,所述单元轮中开设有打磨孔,所述单元轮的上表面或下表面中至少一者设置有连接部,所述连接部中设置有连接块,所述连接块的一端通过转动轴连接在单元轮上,所述连接块另一端位置所对应的单元轮上开设有连接孔,所述连接块与连接孔的形状相匹配;当连接块处于水平位置时,其表面与单元轮表面齐平。
进一步地,所述游星轮至少由第一单元轮和第二单元轮组成,所述第一单元轮上表面的连接块处于垂直位置并与第二单元轮下表面的连接孔相配合,所述第二单元轮下表面的连接块处于垂直位置并与第一单元轮上表面的连接孔相配合。
更进一步,还包括打磨层,所述打磨层设置在第一单元轮和第二单元轮之间的打磨孔中。
作为优选,所述单元轮的上表面或下表面中至少一者设置有固定孔,所述固定孔内凹设置在打磨孔周围,所述打磨层面积较打磨孔大,其伸出打磨过部分被固定孔固定。
作为优选,所述连接部数量至少为三个,且等距分布在同一圆周上。
本发明同现有技术相比具有以下优点及效果:通过连接部结构的设置使游星轮的厚度可自由调整,并且当单元轮数量大于等于两个时,单元轮之间可形成用于存放打磨层的空间,用于非研磨面的磨平工作。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的结构示意图。
图2为本发明的剖视图。
标号说明:
游星轮1打磨孔2 固定孔21
连接部3连接块31转动轴32
连接孔33 光学器件4 打磨层5
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明,以下实施例是对本发明的解释而本发明并不局限于以下实施例。
实施例1:
如图1至2所示,本游星轮1由第一单元轮1A和第二单元轮1B组成,每个单元轮上均在相同位置开设有打磨孔2用以容纳光学器件4,并且在打磨孔2周围开设有内凹的固定孔21,每个单元轮上下表面在同一圆周上的相同位置等距设置有3个连接部3,连接部3由连接块31、转动轴32和连接孔33组成,连接块31可绕转动轴32旋转,连接孔33开设在连接块31的另一端,其形状与连接块31相一致,当连接块31处于水平位置时,其表面与单元轮表面齐平;当连接块31处于垂直位置时,其可以与其它单元轮的连接孔33相配合,其中第一单元轮1A上表面的连接块31A处于垂直位置并与第二单元轮1B下表面的连接孔33B相配合,所述第二单元轮1B下表面的连接块31B处于垂直位置并与第一单元轮1A上表面的连接孔31A相配合,从而实现1A带动1B同时转动,并且1A和1B两者的打磨孔21A和21B对接,从而可以在其内容纳打磨层5并对其位置进行相对固定,使光学器件4无需研磨的面进行磨平。
此外,需要说明的是,本说明书中所描述的具体实施例,其零、部件的形状、所取名称等可以不同。凡依本发明专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效或简单变化,均包括于本发明专利的保护范围内。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离本发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本发明的保护范围。
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