[发明专利]一种阵列基板及显示面板、显示装置在审

专利信息
申请号: 201710927363.3 申请日: 2017-09-28
公开(公告)号: CN107589611A 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 齐智坚;杨妮;许亨艺;王植;胡双;文江鸿;侯宇松 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/135;G02F1/1343
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 显示 面板 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及显示面板、显示装置。

背景技术

显示装置作为人们日常生活中常见的一种电器,以现有的液晶显示装置为例,结合图1和图2(图1沿O-O’位置的剖面示意图),该液晶显示装置包括阵列基板10、彩膜基板20以及位于彩膜基板20以及阵列基板10之间的液晶层30,并且该液晶显示装置包括呈矩阵排列的多个亚像素01,彩膜基板20上设置有黑矩阵02,其中,黑矩阵02与亚像素01具有交叠区域。

由于黑矩阵02由吸光材料构成,如图2所示,从而使得亚像素01在对应与黑矩阵02交叠区域的光线L被黑矩阵吸收而无法透出该显示装置,也即该部分光线无法加以有效利用,使得该显示装置的光利用率较低。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板及显示面板、显示装置,能够对入射至亚像素与黑矩阵交叠区域的至少部分光线加以利用。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

本发明实施例一方面提供一种阵列基板,包括多个呈矩阵排列、且由像素电极界定的亚像素以及遮光区,所述遮光区包括位于相邻的亚像素之间、以及与相邻的亚像素均交叠的区域;所述阵列基板还包括设置于衬底基板上、且主要由铁电材料构成铁电层,所述铁电层位于所述遮光区中。

进一步优选的,所述遮光区与所述相邻的亚像素交叠的区域设置有所述铁电层。

进一步优选的,所述遮光区与所述相邻的亚像素交叠的区域全部设置有所述铁电层。

进一步优选的,所述铁电层在所述衬底基板上的正投影与所述遮光区在所述衬底基板上的正投影重合。

进一步优选的,所述阵列基板还包括设置于所述衬底基板上的公共电极。

进一步优选的,所述公共电极和所述像素电极位于不同层,且所述公共电极和所述像素电极中一个为狭缝电极,另一个为面状电极;所述铁电层位于所述公共电极和所述像素电极之间。

进一步优选的,所述铁电层与所述公共电极和所述像素电极中靠近所述衬底基板中的一个电极直接接触。

本发明实施例另一方面还提供一种显示面板,包括:前述的阵列基板以及与所述阵列基板对盒的第二基板,所述阵列基板中的遮光区与设置于所述第二基板中的黑矩阵对应。

进一步的,在公共电极和像素电极中仅像素电极位于所述阵列基板中的情况下,所述公共电极位于所述第二基板中。

本发明实施例再一方面还提供一种显示装置,包括前述的显示面板。

本发明实施例提供一种阵列基板及显示面板、显示装置,该阵列基板包括多个呈矩阵排列、且由像素电极界定的亚像素以及遮光区,遮光区包括位于相邻的亚像素之间、以及与相邻的亚像素均交叠的区域;阵列基板还包括设置于衬底基板上、且主要由铁电材料构成铁电层,铁电层位于遮光区中。

由于铁电材料在电场的作用下能够产生双折射效应以及压电效应,也即在包括上述阵列基板的显示装置在进行显示时,铁电层能够在像素电极和公共电极形成的电场的作用下产生双折射效应和压电效应,从而使得至少部分透过该遮光区中铁电层的光线的方向发生改变,而朝向遮光区以外的开口区(实际有效的显示区)方向出射,进而提高了光的有效利用率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中提供的一种显示装置的结构示意图;

图2为图1沿O-O’位置的剖面结构示意图;

图3为本发明实施例提供的一种阵列基板位于显示面板中的结构示意图;

图4为本发明实施例提供的一种阵列基板位于显示面板中的结构示意图;

图5为本发明实施例提供的一种阵列基板位于显示面板中的结构示意图;

图6为本发明实施例提供的一种阵列基板位于显示面板中的结构示意图。

附图标记:01-亚像素;02-黑矩阵;10-阵列基板;20-彩膜基板;30-液晶层;100-衬底基板;101-像素电极;102-铁电层;103-公共电极;200-遮光区。

具体实施方式

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