[发明专利]用于发光设备的驱动装置及其方法有效

专利信息
申请号: 201710931304.3 申请日: 2013-08-09
公开(公告)号: CN108601169B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 段毅君;黄涛涛 申请(专利权)人: 意法半导体研发(深圳)有限公司
主分类号: H05B45/30 分类号: H05B45/30;H05B45/54
代理公司: 11256 北京市金杜律师事务所 代理人: 王茂华;张宁
地址: 518057 广东省深圳市南山*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 驱动电流源 发光设备 驱动装置 节点注入电流 保护模块 检测结果 模块耦合 配置 驱动
【权利要求书】:

1.一种设备,包括:

驱动电流源模块,包括耦合至驱动晶体管的运算放大器,所述驱动晶体管被配置成经由节点供应电流至发光器件;以及

在所述驱动电流源模块中包括的电路,其被配置成在脉冲宽度调制PWM模式中调光时通过减小由所述运算放大器引起的延迟来改进调光精确度,所述电路包括用于响应于所述PWM模式在所述运算放大器的输入端处提高电压的装置。

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述驱动电流源模块还包括:

第一开关,耦合在所述运算放大器的第二输入端和所述驱动晶体管之间;以及

第二开关,耦合在所述运算放大器的输出端和参考节点之间;以及

其中用于提高的所述装置包括:

第一电阻器单元,耦合在所述第一开关和所述参考节点之间;

第二电阻器单元,耦合在所述运算放大器的第一输入端和参考节点之间;以及

控制电路,被配置成响应于所述PWM模式增加所述第一电阻器单元和所述第二电阻器单元之一的电阻值。

3.根据权利要求1所述的设备,其中用于提高的所述装置包括:

第一电阻器单元,耦合在所述运算放大器的第一输入端和参考节点之间;

第二电阻器单元,耦合在所述运算放大器的第二输入端和所述参考节点之间;以及

控制电路,被配置成改变所述第二电阻器单元的电阻值。

4.根据权利要求3所述的设备,其中所述第二电阻器单元包括多个串联连接的电阻器和与相应电阻器并联连接的多个开关,其中所述控制电路被配置成通过选择性断开所述多个开关中的开关来改变所述第二电阻器单元的电阻值。

5.根据权利要求3所述的设备,其中所述第二电阻器单元包括多个并联连接的电阻器和与相应电阻器串联连接的多个开关,其中所述控制电路被配置成通过选择性的断开所述多个开关中的开关来改变所述第二电阻器单元的电阻值。

6.根据权利要求1所述的设备,其中用于提高的所述装置包括:

第一电阻器单元,耦合在所述运算放大器的第一输入端和参考节点之间;

第二电阻器单元,耦合在所述运算放大器的第二输入端和所述参考节点之间;以及

控制电路,被配置成通过增加流经所述第一电阻器单元的电流来提高所述运算放大器的输入端处的电压。

7.根据权利要求6所述的设备,其中所述第一电阻器单元包括多个串联连接的电阻器和与相应电阻器并联连接的多个开关,其中所述控制电路被配置成通过选择性断开所述多个开关中的开关来增加流经所述第一电阻器单元的电流。

8.根据权利要求6所述的设备,其中所述第一电阻器单元包括多个并联连接的电阻器和与相应电阻器串联连接的多个开关,其中所述控制电路被配置成通过选择性的断开所述多个开关中的开关来增加流经所述第一电阻器单元的电流。

9.根据权利要求1所述的设备,其中所述运算放大器包括差分跨导级,以及其中所述电路响应于PWM信号的逻辑状态改变通过增加流经所述差分跨导级的电流来减小延迟。

10.根据权利要求9所述的设备,其中所述运算放大器还包括密勒补偿电容器,以及其中所述电路通过从流经所述差分跨导级的增加的电流来向所述密勒补偿电容器供应电力来减小延迟。

11.根据权利要求9所述的设备,

其中所述差分跨导级包括成对的差分输入晶体管,其中所述差分输入晶体管的第一端耦合至电流镜电路,以及所述差分输入晶体管的第二端耦合至电流级;

其中所述差分跨导电路还包括与所述电流镜电路并联连接的第一附加电流源电路以及第二附加电流源电路和第三附加电流源电路,所述第二附加电流源电路和所述第三附加电流源电路耦合至所述成对的输入晶体管的第二端,以及

其中所述第一附加电流源电路、所述第二附加电流源电路和所述第三附加电流源电路被选择性地激励以响应于所述PWM信号的逻辑状态改变来供应附加的电流。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于意法半导体研发(深圳)有限公司,未经意法半导体研发(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710931304.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top