[发明专利]基底的传输装置、传输方法以及光刻设备

说明书

本发明提供了一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备，包括运动平台以及若干个转板台，所述若干个转板台沿x方向设置，所述转板台用于沿y方向传输基底，所述x方向与y方向相互垂直，所述运动平台包括固定台以及若干个与所述固定台运动连接的运动台，所述转板台分别与所述运动台连接并通过所述运动台可沿x方向运动，所述若干个转板台包括若干个上板台和若干个下板台。本发明提供的一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备能够提高效率。

技术领域

本发明属于光刻技术领域，涉及一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备。

背景技术

在光刻机等众多半导体设备中，基底传送进曝光工位时需要经过传输工位进行交接。一般需要在曝光工位前设置一个传输工位，将基底传送到曝光位置；但是传输装置不能对基底进行预对准，需要独立增加预对准装置对基底进行预对准，预对准完成之后再送到工件台进行曝光，如此就使得基底的曝光效率较低。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基底的传输装置、传输方法以及光刻设备，旨在解决基底曝光效率低的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种基底的传输装置，设置在一光刻设备内，用于向所述光刻设备的工件台传输基底以及从工件台接收基底，包括运动平台以及若干个转板台，所述若干个转板台沿x方向设置，所述转板台用于沿y方向传输基底，所述x方向与y方向相互垂直，所述运动平台包括固定台以及若干个与所述固定台运动连接的运动台，所述转板台分别与所述运动台连接并通过所述运动台可沿x方向往复运动，所述若干个转板台包括若干个上板台和若干个下板台；

所述上板台设置有传送组件用于将位于所述上板台上的待曝光基底转移至所述工件台，所述下板台设置有传送组件用于将已曝光基底从所述工件台转移至所述下板台；

所述固定台上设置有基底交接工位和预对准工位，所述下板台运动到所述基底交接工位处与所述工件台进行一已曝光基底的交接时，所述上板台处于所述预对准工位对一待曝光基底进行预对准。

本发明进一步设置为，所述运动平台上和/或所述转板台上设置有用于对基底进行预对准的预对准组件。

本发明进一步设置为，所述转板台的两侧设置有用于对位于所述转板台上的基底在x方向进行预对准的x方向预对准单元，所述预对准组件包括位于所述固定台上的用于对位于所述转板台上的基底在y 方向进行预对准的y方向预对准单元。

本发明进一步设置为，所述若干个转板台为一个上板台和一个下板台。

本发明进一步设置为，所述y方向预对准单元设置有两个，两个所述y方向预对准单元分布于所述基底交接工位的两侧。

本发明进一步设置为，所述基底交接工位包括板叉交接工位以及工件台交接工位，所述板叉交接工位与所述工件台交接工位沿y方向分布于所述固定台的两侧，位于所述板叉交接工位处板叉与所述转板台之间交接基底，位于所述工件台交接工位处所述工件台与所述转板台之间交接基底。

本发明进一步设置为，与所述上板台连接的所述运动台以及与所述下板台连接的所述运动台为一体结构。

本发明进一步设置为，两个所述y方向预对准单元分别位于下板 y方向预对准工位和上板y方向预对准工位，所述下板y方向预对准工位和所述上板y方向预对准工位对称分布于所述基底交接工位的两侧，当所述下板台位于所述基底交接工位时，所述上板台位于所述上板y方向预对准工位处，当所述上板台位于所述基底交接工位时，所述下板台位于所述下板y方向预对准工位处。

本发明进一步设置为，所述固定台上设置有过渡气浮组件，用于对位于工件台与所述转板台之间的基底提供气浮面支撑。

本发明进一步设置为，所述过渡气浮组件上设置有用于升降所述过渡气浮组件的升降结构，所述升降结构连接于所述固定台。