[发明专利]一种耐污型瓷质抛光砖的制备方法

说明书

本发明公开了一种耐污型瓷质抛光砖的制备方法，属于装饰材料技术领域。将高岭土，石英，长石和碳酸钙混合于球磨机中，球磨，得混合料，将混合料与水混合后加入喷雾塔，喷粉干燥，得配料，将配料加入模具中，于压力机中压制成型后，移入干燥窑，干燥，再移入烧结炉，烧制成型，得预一次烧结砖，将一次烧结砖与1号处理液混合，浸泡，干燥，得预备砖，将预备砖移入烧结炉中烧结，得二次烧结砖，将二次烧结砖于抛光液保护下进行抛光处理，洗涤，烘干，得预处理抛光砖，将预处理抛光砖浸泡于2号处理液中，并将浸泡后的预处理抛光砖洗涤后于氧气气氛中，煅烧，洗涤，干燥，得耐污型瓷质抛光砖。本发明制备的耐污型瓷质抛光砖具有优良的抗污性能。

技术领域

本发明公开了一种耐污型瓷质抛光砖的制备方法，属于装饰材料技术领域。

背景技术

抛光砖是通体砖坯体的表面经过打磨而成的一种光亮的砖，属通体砖的一种。相对通体砖而言，抛光砖表面要光洁得多。抛光砖坚硬耐磨，适合在洗手间、厨房等室内空间中使用。在运用渗花技术的基础上，抛光砖可以做出各种仿石、仿木效果。

瓷质抛光砖吸水率低，机械性能好，且表面光亮如镜，给人以一种富丽堂皇的感觉，深受消费者青睐。但是瓷质抛光砖有一个突出的缺点，就是表面沾上墨水等污物后很难洗去，在表面留下难看的痕迹。抛光砖生产厂家采取在抛光砖表面涂一层防污剂的办法来防止这种污染，但所有的防污剂都有不耐磨损和不能防滑的缺点，而且，防污剂的使用大大增加了生产成本。这些缺点制约了抛光砖行业的发展。

抛光砖不耐污染的原因，是由其表面微观结构决定的。在扫描电镜下可以看到，抛光砖表面有许许多多的微观缺陷，包括封闭气孔在抛光后露出表面形成的开口气孔、表面微裂纹以及坯体中未熔石英晶粒在冷却过程中发生晶型转变而产生体积效应，与玻璃相剥离，随后在抛光过程中被抛光机磨头拔出而形成的坑洞等。很多研究者认为，抛光砖防污能力差的主要原因是开口气孔吸污所致。近年来一些技术较先进的厂家生产的抛光砖的吸水率多已低至0.1%，且通过一系列优化的工艺很好地控制了表面微裂纹的扩展，但防污能力差的问题仍很突出，可见抛光砖表面易吸污的主要原因可能是未熔石英晶粒导致的缺陷。因此，还需对抛光砖进行研究，制作出一种耐污性能好的抛光砖。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是：针对传统抛光砖耐污性能不佳的问题，提供了一种耐污型瓷质抛光砖的制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：

（1）将高岭土，石英按质量比2：3～2：5混合于球磨机中，并加入高岭土质量0.5～1.0倍的长石和高岭土质量0.2～0.4倍的碳酸钙，球磨，过筛，得混合料；

（2）将混合料与水按质量比1：3～1：6混合搅拌，得预处理混合料，并将预处理混合料加入喷雾塔，喷粉干燥，得配料；

（3）将配料加入模具中，于压力机中压制成型，得预处理坯料，将预处理坯料移入干燥窑，干燥，得坯料；

（4）将坯料移入烧结炉，烧制成型，得一次烧结砖，将一次烧结砖与1号处理液混合，浸泡，干燥，得预备砖，将预备砖移入烧结炉中，烧结，得二次烧结砖；

（5）将二次烧结砖于抛光液保护下进行抛光处理，洗涤，烘干，得预处理抛光砖，将预处理抛光砖与2号处理液混合，浸泡，将浸泡后的预处理抛光砖洗涤后于氧气气氛中，煅烧，洗涤，干燥，得耐污型瓷质抛光砖。

步骤（4）所述1号处理液的制备方法为：将纳米二氧化硅与水按质量比1：10～1：15混合，超声振荡，即得1号处理液。

步骤（5）所述抛光液为金刚石抛光液，氧化铈抛光液或氧化硅抛光液中任意一种。

步骤（5）所述2号处理液的制备方法为：将纳米铝粉和纳米镁粉按质量比1：2～1：3混合，加入纳米铝粉质量12～15倍的水，超声振荡，得2号处理液。

本发明的有益效果是：