[发明专利]一种双端进出的玻璃镀膜设备

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃镀膜的技术领域，尤其涉及一种双端进出的玻璃镀膜设备。

背景技术

玻璃真空镀膜需要镀制较厚的膜层时，理论上只要玻璃在镀膜室里反复走动多次就可以镀制出理想的膜层。但是，目前镀制比较厚的膜层，一般都是增加镀膜室的长度，并增加磁控靶的数量，从而实现在玻璃上镀制比较厚的膜层。这会增加镀膜室的体积，增加厂房面积，增加设备的使用成本，且镀膜效率不高。同时现有技术的磁控靶利用效率不高，造成磁控靶的浪费。

发明内容

针对现有技术中存在的技术问题，本发明的目的是：提供一种双端进出的玻璃镀膜设备，可镀制较厚的膜层。

为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种双端进出的玻璃镀膜设备，包括依次连接且均设有滚筒传送机构的前进出片室、前过渡室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后过渡室、后进出片室；前进出片室的出入口处设有真空锁，前进出片室和前过渡室之间设有真空锁，前过渡室和前缓冲室之间设有真空锁，后缓冲室和后过渡室之间设有真空锁，后过渡室和后进出片室之间设有真空锁，后进出片室的出入口处设有真空锁；连通的前缓冲室、镀膜室、后缓冲室形成相通的真空室；镀膜室内设有多个定向旋转靶，定向旋转靶位于玻璃的上方，定向旋转靶内设有用于形成夹角磁场的磁铁。

进一步的是：多个定向旋转靶沿着玻璃的传输路径依次设置在镀膜室上，每个定向旋转靶上均设有玻璃传感器。

进一步的是：每个定向旋转靶上设有一块竖直磁铁和两块倾斜磁铁，竖直磁铁放置在定向旋转靶下部的中心位置上，两块倾斜磁铁对称布置在竖直磁铁的两侧。

进一步的是：镀膜室上设有两个光电传感器，多个定向旋转靶位于两个光电传感器之间。

进一步的是：前进出片室的出入端设有前进出料架，后进出片室的出入端设有后进出料架。

进一步的是：前进出料架和后进出料架处均设有输送机构，输送机构的输送通道与滚筒传送机构的传送通道处于同一高度上。

进一步的是：镀膜设备还包括室下传送机构，室下传送机构的一端位于前进出料架处，室下传送机构的另一端位于后进出料架处；前进出料架和后进出料架处均设有升降机构，升降机构降至最低处时，升降机构与室下传送机构相接，升降机构升至最高处时，升降机构与输送机构相接。

进一步的是：前进出片室、前过渡室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后过渡室、后进出片室均设有抽真空机组；前进出片室和后进出片室上设有离子清洗装置。

进一步的是：前过渡室和后过渡室上均设有加热装置。

进一步的是：相邻两个滚筒传送机构之间的间距小于玻璃的长度。

总的说来，本发明具有如下优点：

本玻璃镀膜设备能使玻璃在镀膜区内实现往复运动，可视工艺要求的不同设定往复次数，实现镀制较厚的膜层。当玻璃不在定向旋转靶的位置上时，定向旋转靶自动调到低能耗档位，避免靶材和能源的浪费。定向旋转靶内磁铁的设置，形成了夹角磁场，限定了溅射的区域，提高定向旋转靶的利用率。使用双端进出的技术可有效提高设备的运转效率。

附图说明

图1是本玻璃镀膜设备的结构示意原理图。

图2是定向旋转靶处的放大图。

具体实施方式

下面将结合附图和具体实施方式来对本发明做进一步详细的说明。

为了便于统一查看说明书附图里面的各个附图标记，现对说明书附图里出现的附图标记统一说明如下：

1为前进出片室，2为前过渡室，3为前缓冲室，4为镀膜室，5为后缓冲室，6为后过渡室，7为后进出片室，8为前进出料架，9为后进出料架，10为室下传送机构，11为真空锁，12为定向旋转靶，13为玻璃，14为滚筒传送机构，15为竖直磁铁，16为倾斜磁铁。

为叙述方便，下文所说的上下左右方向与图1本身的上下左右方向一致。