[发明专利]掩模组件及通过使用掩模组件制造显示装置的装置和方法

权利要求书

1.掩模组件，包括：

掩模片；以及

多个第一开口和多个第二开口，所述第一开口和所述第二开口位于所述掩模片中的不同位置处，

其中所述掩模片在所述多个第一开口之中的两个相邻的第一开口之间的第一厚度和所述掩模片在所述多个第二开口之中的两个相邻的第二开口之间的第二厚度，根据沉积源与所述第一开口和所述第二开口中的每一个之间的距离的不同而彼此不同，且随着所述沉积源与所述第一开口和所述第二开口中的每一个之间的距离的增大而减小。

2.如权利要求1所述的掩模组件，其中，所述第一开口位于所述掩模片的中央，并且所述第二开口与所述第一开口隔开。

3.如权利要求1所述的掩模组件，其中，所述第一厚度大于所述第二厚度。

4.如权利要求1所述的掩模组件，其中，所述掩模片的底表面在所述多个第一开口之中的两个相邻的第一开口之间的第一宽度与所述掩模片的所述底表面在所述多个第二开口之中的两个相邻的第二开口之间的第二宽度不同。

5.如权利要求4所述的掩模组件，其中，所述第一宽度大于所述第二宽度。

6.掩模组件，包括：

掩模片；以及

多个第一开口和多个第二开口，所述第一开口和所述第二开口位于所述掩模片中的不同位置处，

其中，所述掩模片的底表面在所述多个第一开口之中的两个相邻的第一开口之间的第一宽度和所述掩模片的所述底表面在所述多个第二开口之中的两个相邻的第二开口之间的第二宽度，根据沉积源与所述第一开口和所述第二开口中的每一个之间的距离的不同而彼此不同，且随着所述沉积源与所述第一开口和所述第二开口中的每一个之间的距离的增大而减小。

7.如权利要求6所述的掩模组件，其中，所述第一宽度大于所述第二宽度。

8.用于制造显示装置的装置，所述装置包括：

掩模组件，配置成面对显示基板；以及

沉积源，配置成面对所述掩模组件，

其中所述掩模组件包括：

掩模片；以及

多个第一开口和多个第二开口，所述第一开口和所述第二开口位于所述掩模片中的不同位置处，以及

所述掩模片在所述多个第一开口之中的两个相邻的第一开口之间的第一厚度和所述掩模片在所述多个第二开口之中的两个相邻的第二开口之间的第二厚度，根据所述沉积源与所述第一开口和所述第二开口中的每一个之间的距离的不同而彼此不同，且随着所述沉积源与所述第一开口和所述第二开口中的每一个之间的距离的增大而减小。

9.如权利要求8所述的装置，其中，所述第一开口与所述沉积源之间的距离小于所述第二开口与所述沉积源之间的距离。

10.如权利要求8所述的装置，其中，所述第一厚度大于所述第二厚度。

11.如权利要求8所述的装置，其中，所述掩模片的底表面在所述多个第一开口之中的两个相邻的第一开口之间的第一宽度与所述掩模片的所述底表面在所述多个第二开口之中的两个相邻的第二开口之间的第二宽度不同。

12.如权利要求11所述的装置，其中，所述第一宽度大于所述第二宽度。