[发明专利]一种粉末包覆原子层沉积装置

权利要求书

1.一种粉末包覆原子层沉积装置，包括粉末容器和反应腔体，其特征在于，所述反应腔体的一端设置有进源口，所述进源口中密封设置有用于通入反应气体或载气的进气管，所述反应腔体的另一端开设有腔门，所述粉末容器设置于腔门内侧且在动力装置的驱动下旋转，所述粉末容器上开设有进气孔，所述进气管通过所述进气孔进入所述粉末容器的内腔，所述反应腔体的内部设置有超声振动杆，所述粉末容器通过导向装置进入所述反应腔体后，所述粉末容器的外侧壁与所述超声振动杆接触，所述粉末容器的内部沿轴向设置有用于增大粉末与容器接触面积的内网。

2.根据权利要求1所述的粉末包覆原子层沉积装置，其特征在于：所述动力装置包括驱动电机和磁流体密封装置，所述腔门的外侧凸出设置有第一法兰接管，所述磁流体密封装置与所述第一法兰接管密封连接，所述腔门的内侧固设有容器支撑架，所述粉末容器的两端分别通过轴承支架盖固定于所述容器支撑架上，且所述粉末容器的一端设置有传动轴，另一端上开设有所述进气孔形成通孔轴，所述驱动电机的输出轴、所述磁流体密封装置的驱动轴和所述传动轴两两之间分别通过联轴器连接。

3.根据权利要求2所述的粉末包覆原子层沉积装置，其特征在于：所述导向装置包括配合设置的直线导轨和滑块，所述反应腔体的腔门侧设置有安装底座，所述直线导轨沿着所述反应腔体的轴向设置于所述安装底座上，所述滑块能够沿着所述直线导轨相对于所述反应腔体移动，所述驱动电机和所述腔门分别通过电机支架和腔门支架固定于所述滑块上。

4.根据权利要求3所述的粉末包覆原子层沉积装置，其特征在于：所述滑块通过丝杆电机或者气缸驱动。

5.根据权利要求1所述的粉末包覆原子层沉积装置，其特征在于：所述反应腔体对应所述超声振动杆设置有第二法兰接管，所述第二法兰接管与外部超声振动装置密封连接，所述超声振动杆自所述第二法兰接管中进入，与所述粉末容器动态接触。

6.根据权利要求5所述的粉末包覆原子层沉积装置，其特征在于：所述超声振动杆的振动频率为10～60kHz，振动功率大于1kW。

7.根据权利要求1所述的粉末包覆原子层沉积装置，其特征在于：所述反应腔体上还开设有第三法兰接管，所述第三法兰接管与外部真空发生装置密封连接。

8.根据权利要求1所述的粉末包覆原子层沉积装置，其特征在于：所述粉末容器上还开有出气孔，所述出气孔的孔口设置有防止粉末漏出的滤网。