[发明专利]显示基板及其制备方法、显示面板及其驱动方法有效
申请号: | 201710945985.9 | 申请日: | 2017-10-12 |
公开(公告)号: | CN107464529B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 李昌峰;董学;王海生;刘英明;丁小梁;刘伟;许睿 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G09G3/3291 | 分类号: | G09G3/3291 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制备 方法 面板 驱动 | ||
1.一种显示基板,包括多个像素单元,每个像素单元中设有用于发光的有机发光二极管,其特征在于,所述显示基板还包括:
设于至少部分像素单元中的感光单元,其用于检测其所在像素单元的有机发光二极管发出的光的光强;
补偿单元,其用于根据所述感光单元检测到的光强与感光单元所在像素单元的有机发光二极管应有的理论光强的差,对提供给该像素单元的数据电压进行调整;
所述感光单元包括光电二极管;
所述显示基板还包括读取线、读取晶体管、栅线,其中,
每条栅线与多个像素单元相连;
所述光电二极管的一极通过读取晶体管与读取线连接,所述读取晶体管的栅极与一条栅线相连,所述栅线为与光电二极管所在像素单元连接的栅线。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,还包括基底以及彩色滤光膜,且
所述感光单元用于检测其所在像素单元的有机发光二极管发出的未经彩色滤光膜的光的光强。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,
所述感光单元在基底上的投影有至少一部分位于有机发光二极管在基底上的投影内;
所述感光单元在基底上的投影与彩色滤光膜在基底上的投影无重叠。
4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,
所述感光单元在基底上的投影与有机发光二极管在基底上的投影无重叠;
所述感光单元在基底上的投影与彩色滤光膜在基底上的投影无重叠。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,
所述显示基板具有用于光射出的出光侧;
所述感光单元朝向出光侧的一侧具有遮光层。
6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,
所述光电二极管的一极为读取晶体管的源极,另一极与有机发光二极管的阳极或阴极同层设置。
7.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:在每个像素单元中形成有机发光二极管的步骤,在至少部分像素单元中形成感光单元的步骤,形成补偿单元的步骤;其中,
所述感光单元用于检测其所在像素单元的有机发光二极管发出的光的光强;
所述补偿单元用于根据感光单元检测到的光强与感光单元所在像素单元的有机发光二极管应有的理论光强的差,对提供给该像素单元的数据电压进行调整;
所述感光单元包括光电二极管;
所述显示基板还包括读取线、读取晶体管、栅线,其中,
每条栅线与多个像素单元相连;
所述光电二极管的一极通过读取晶体管与读取线连接,所述读取晶体管的栅极与一条栅线相连,所述栅线为与光电二极管所在像素单元连接的栅线。
8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法,其特征在于,还包括形成第一晶体管的步骤;且,
所述光电二极管,其半导体层由非晶硅半导体构成;
所述第一晶体管的有源层由金属氧化物半导体构成。
9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述形成第一晶体管的步骤和所述形成感光单元的步骤包括:
形成第一晶体管的有源层;
在形成所述有源层后,形成源漏金属层,所述源漏金属层覆盖有源层;
在形成所述源漏金属层后,形成光电二极管的半导体层;
在形成所述半导体层后,将所述源漏金属层图案化以形成第一晶体管的源极和漏极。
10.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述形成第一晶体管的步骤和所述形成感光单元的步骤包括:
形成第一晶体管的有源层;
在形成所述有源层后,同时形成第一保护层以及第一晶体管的源极、漏极,其中,所述第一保护层连接在源极和漏极之间,并覆盖所述有源层位于源极和漏极之间的部分;
在形成所述第一保护层、源极、漏极后,形成光电二极管的半导体层;
在形成所述半导体层后,除去所述第一保护层。
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