[发明专利]衬底处理设备

权利要求书

1.一种衬底处理设备，其特征在于，包括：

腔室，具有衬底处理空间；以及

线圈部分，具有多个电感线圈，所述多个电感线圈中的每一者具有被缠绕成包围所述腔室的外圆周的形状且排列在所述腔室的延伸方向上，

其中所述多个电感线圈包括：

边缘型电感线圈，在所述腔室中形成在与所述衬底的边缘区域对应的区域处的密度相对高于在与所述衬底的中心区域对应的区域处的密度的等离子体；以及

中心型电感线圈，在所述腔室中形成在与所述衬底的所述中心区域对应的所述区域处的密度相对高于在与所述衬底的所述边缘区域对应的所述区域处的密度的等离子体。

2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其特征在于，进一步包括：

第一电源供应端子，连接到所述边缘型电感线圈的长度的中心；以及

第二电源供应端子，连接到所述中心型电感线圈的两端中的一端，

其中所述边缘型电感线圈的两端中的一端与另一端中的每一者均接地，且所述中心型电感线圈的长度的中心接地。

3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其特征在于，所述边缘型电感线圈及所述中心型电感线圈中的每一者是交流电源的波长的四分之一的λ倍，且所述边缘型电感线圈的所述长度比所述中心型电感线圈的所述长度长。

4.根据权利要求3所述的衬底处理设备，其特征在于，

所述线圈部分是中心加强型，其中所述中心型电感线圈配置成比所述边缘型电感线圈相对更靠近所述衬底，或者

所述线圈部分是边缘加强型，其中所述边缘型电感线圈配置成比所述中心型电感线圈相对更靠近所述衬底。

5.根据权利要求4所述的衬底处理设备，其特征在于，

所述线圈部分是中心强化型，其中设置有多个所述中心型电感线圈，且所述多个中心型电感线圈连续排列成比所述边缘型电感线圈更靠近所述衬底，或者

所述线圈部分是边缘强化型，其中设置有多个所述边缘型电感线圈，且所述多个边缘型电感线圈连续排列成比所述中心型电感线圈更靠近所述衬底。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的衬底处理设备，其特征在于，所述第一电源供应端子被形成及安装成在与对应于所述边缘型电感线圈的延伸方向的参考线交叉成直角的方向上延伸，且所述第二电源供应端子被形成及安装成在与对应于所述中心型电感线圈的延伸方向的参考线交叉成直角的方向上延伸。

7.根据权利要求6所述的衬底处理设备，其特征在于，进一步包括：

壳体，形成为包围所述腔室的所述外圆周且接地，其中所述第一电源供应端子及所述第二电源供应端子中的每一者被安装成穿过所述壳体；以及

电源供应构件，与所述第一电源供应端子及所述第二电源供应端子中的每一者的一端连接且安装在所述壳体外。

8.根据权利要求7所述的衬底处理设备，其特征在于，进一步包括绝缘构件，所述绝缘构件安装在所述壳体的被所述第一电源供应端子及所述第二电源供应端子中的每一者穿过的部分处，且封闭穿过所述壳体的所述第一电源供应端子及所述第二电源供应端子中的每一者的周围。

9.根据权利要求7所述的衬底处理设备，其特征在于，进一步包括：

多个第一接地端子，所述多个第一接地端子的一端分别连接到所述边缘型电感线圈的所述一端及所述另一端，且所述多个第一接地端子的另一端连接到所述壳体；以及

第二接地端子，所述第二接地端子的一端连接到所述中心型电感线圈的所述长度的所述中心，且所述第二接地端子的另一端连接到所述壳体，

其中所述多个第一接地端子安装成延伸至与所述边缘型电感线圈的所述延伸方向交叉成直角，且所述第二接地端子安装成延伸至与所述中心型电感线圈的所述延伸方向交叉成直角。

10.根据权利要求2至5中任一项所述的衬底处理设备，其特征在于在所述腔室的一侧处设置有闸门孔，所述衬底经由所述闸门孔移动，且

所述衬底处理设备进一步包括区块构件，所述区块构件放置成在衬底处理过程中在腔室中面对所述闸门孔，且所述区块构件为可上下移动的。