[发明专利]一种二氧化钛/Zn‑g‑C3N4/石墨烯复合材料的制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201710949981.8 申请日: 2017-10-13
公开(公告)号: CN107715904A 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 戴珂;曾鹏;韩萍萍;谢金秋;王进 申请(专利权)人: 华中农业大学;肇庆市万维新材料科技有限公司
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J37/08;B01J37/10;C02F1/30;C02F101/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 氧化 zn c3n4 石墨 复合材料 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光催化剂技术领域,特别涉及一种二氧化钛/Zn-g-C3N4/石墨烯复合材料的制备方法与应用。

背景技术

近年来,随着电镀、冶金、制革、印染和化工等行业的快速发展,水体中重金属的含量越来越高。铬作为一种重要的污染物,相对于三价铬,六价铬的毒性是其100倍,且六价铬更容易被人体所吸收和蓄积,并引起口角糜烂、恶心、呕吐、腹泻、腹疼和溃疡等病变。最常用的处理Cr(VI)的方法是加一定量还原剂将Cr(VI)转化成Cr(III),之后在碱性条件下形成Cr(OH)3沉淀而去除,但这种方法需要消耗大量的还原剂且容易造成二次污染。

半导体光催化法能够把Cr(VI)还原成Cr(III),是一种环境友好的处理方法。TiO2由于其性质稳定、无毒、氧化还原能力强、无二次污染等优点,是目前公认的最佳光催化剂。虽然TiO2对于重金属的去除有很高的效果,

但是由于TiO2的电子-空穴的复合率高,导致其光催化的量子产率低而影响了其实际应用。而且,TiO2过大的禁带宽度( 3.2eV) 导致其只能吸收太阳光中的紫外光部分,而不能吸收可见光部分。因此,对于改进TiO2的光催化效率主要集中在改善其量子产率和对可见光的利用率。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种二氧化钛/Zn-g-C3N4/石墨烯复合材料的制备方法与应用,该一种二氧化钛/Zn-g-C3N4/石墨烯复合材料光催化剂在光照射下可去除废水中六价铬。

本发明的技术方案如下:

本发明提供一种二氧化钛/Zn-g-C3N4/石墨烯复合材料,其中石墨烯的质量分数为5~30%,二氧化钛的质量分数为30~60%,Zn-g-C3N4的质量分数为30~60%;

本发明提供一种二氧化钛/Zn-g-C3N4/石墨烯复合材料,其中外层的石墨烯为三维3D石墨烯结构,二氧化钛纳米颗粒与Zn-g-C3N4复合材料均匀的分布在3D石墨烯的孔结构中。

本发明还提供一种二氧化钛/Zn- g-C3N4/石墨烯复合材料的制备方法,其制备方法如下:

(1)将二氰二氨和醋酸锌溶解于蒸馏水中,机械搅拌,放入干燥箱内干燥,干燥后转移到马弗炉内煅烧,反应完全后自然冷却得到Zn-g-C3N4

(2)将氧化石墨和制备的Zn-g-C3N4加入到水中超声分散形成均匀的悬浮液,再将钛酸四丁酯缓慢地滴入悬浮液中,充分搅拌,混合液转移到聚四氟乙烯内胆中,装入不锈钢反应釜中,进行溶剂热反应。

(3)将溶剂热反应的产物取出,先用乙醇清洗,随后再用去离子水清洗,在真空干燥箱中干燥,得到二氧化钛/ Zn-g-C3N4/石墨烯复合材料;

其中步骤(1)中二氰二氨与醋酸锌的质量比为1:0.05~0.1,煅烧温度为500~600℃,煅烧时间为1~3h。

其中步骤(2)中氧化石墨与Zn-g-C3N4的质量比为0.1~0.5:1,氧化石墨与钛酸四丁酯的质量比为0.1~0.5:1,超声分散时间30~60分钟,溶剂热反应的温度为170~200℃,反应时间为5~24小时。

本申请中异质结可以在复合材料二氧化钛/ Zn-g-C3N4之间形成,有利于电子和空穴的分离,普通二氧化钛/g-C3N4产生的电子不能被转移和利用,异质结构中的光生电子和空穴仍会重新组合,导致相对较低的活性,本专利中Zn部分取代了g-C3N4的碳,并加入到g-C3N4的框架中。这时碳的一部分形成了碳正离子,可以更容易地捕获电子;同时石墨烯也具备超高的导电能力,能够快速的将光生电子转移。

三维结构的石墨烯材料具有大的比表面积和大量的孔结构,有利于吸附废水中的六价铬,并对其进行还原,提高还原效率。

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