[发明专利]一种液晶显示面板中的间隙子的制备方法及液晶显示面板

权利要求书

1.一种液晶显示面板中的间隙子的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：

在阵列基板上形成第一衬垫和第二衬垫，所述第一衬垫高于所述第二衬垫，且所述第一衬垫和所述第二衬垫均为单层衬垫；

在所述阵列基板上形成黑色间隔层，且所述黑色间隔层覆盖所述第一衬垫和所述第二衬垫；

图形化所述黑色间隔层，得到具有高度段差的主要间隙子、辅助间隙子和黑色矩阵，其中，所述主要间隙子位于所述第一衬垫上方，所述辅助间隙子位于所述第二衬垫上方，且所述主要间隙子高于所述辅助间隙子；

在阵列基板上形成第一衬垫和第二衬垫，包括下述步骤：

在所述阵列基板上形成色阻层；

当所述色阻层上包含有不同高度的色阻区域，且不同高度的色阻区域之间的高度段差满足设定高度段差值时，采用普通掩膜板对所述色阻层进行曝光显影，得到所述第一衬垫和所述第二衬垫；

当所述色阻层上不同色阻区域的高度均相同，或者所述色阻层上包含有不同高度的色阻区域时，且不同高度的色阻区域之间的高度段差不满足设定高度段差值时，采用灰度掩膜板、半透掩膜板以及狭缝掩膜板中的一种，以及普通掩膜板，对所述色阻层进行曝光显影，得到所述第一衬垫和所述第二衬垫。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板中的间隙子的制备方法，其特征在于，所述主要间隙子与所述辅助间隙子之间的高度段差范围为0.2～0.8微米。

3.根据权利要求1所述的液晶显示面板中的间隙子的制备方法，其特征在于，所述主要间隙子与所述辅助间隙子之间的高度段差为△H2，所述第一衬垫与所述第二衬垫之间的高度段差为△H1，△H2 与△H1的比值范围为40％～70％。

4.根据权利要求1所述的液晶显示面板中的间隙子的制备方法，其特征在于，图形化所述黑色间隔层，具体为：

采用普通掩膜板对所述黑色间隔层进行曝光显影处理。

5.根据权利要求1所述的液晶显示面板中的间隙子的制备方法，其特征在于，所述色阻层在所述阵列基板的栅线区域断开。

6.一种液晶显示面板，其特征在于，其通过权利要求1～5任一项所述的方法制备得到，其包括：阵列基板、位于所述阵列基板上方的上基板，以及夹持在所述上基板和所述阵列基板之间的液晶层，所述阵列基板包括下基板，以及设置在所述下基板上的阵列电路；

在所述阵列基板上设置第一衬垫和第二衬垫，所述第一衬垫高于所述第二衬垫，且所述第一衬垫和所述第二衬垫均为单层衬垫；

在所述阵列基板上设置有黑色间隔层，所述黑色间隔层包括具有高度段差的主要间隙子、辅助间隙子和黑色矩阵，其中，所述主要间隙子位于所述第一衬垫上方，所述辅助间隙子位于所述第二衬垫上方，且所述主要间隙子高于所述辅助间隙子；

所述第一衬垫和所述第二衬垫均为色阻材料制成。

7.根据权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，

所述主要间隙子与所述辅助间隙子之间的高度段差范围为0.2～0.8微米。

8.根据权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述主要间隙子与所述辅助间隙子之间的高度段差为△H2，所述第一衬垫与所述第二衬垫之间的高度段差为△H1，△H2与△H1的比值范围为40％～70％。

9.根据权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，还包括上偏光片和下偏光片，所述上偏光片位于所述上基板的上方，所述下偏光片位于所述下基板的下方。