[发明专利]一种触控基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201710956647.5 | 申请日: | 2017-10-13 |
公开(公告)号: | CN107622990B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 王静;吴玲艳;谢涛峰;谢晓冬;何敏;李冬;曾琴;张卫;郑启涛;韩骁;吴启迪;李亚英;朱顺成 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/49 | 分类号: | H01L23/49;H01L21/60;G06F3/041 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 胡艳华;李丹 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 触控基板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种触控基板,其特征在于,包括:基底和设置在所述基底上的触控走线层;其中,所述触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案;
所述触控走线层包括:第一金属层、透明导电层和第二金属层;
所述第一金属层和所述第二金属层包括多个镂空图案,所述多个镂空图案间隔设置,所述多个镂空图案沿所述触控走线层的延伸方向依次排列;
所述透明导电层和所述第二金属层依次设置在所述第一金属层远离所述基底的一侧;
所述触控基板还包括:绝缘层和触控层;
所述触控层通过绝缘层过孔与所述触控走线层连接;
所述绝缘层设置在所述触控走线层远离所述基底的一侧;
所述绝缘层的材料为负性光刻胶,所述触控层的材料为氧化铟锡。
2.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述镂空图案包括:三角形、四边形、六边形、圆形或椭圆形中任意一种或多种。
3.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述第一金属层和所述第二金属层的线宽为4-6微米。
4.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述透明导电层的材料为氧化铟锡。
5.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-4任一所述的触控基板。
6.一种触控基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基底;
在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层,所述多个金属线形成的镂空图案间隔设置,所述多个金属线形成的镂空图案沿所述触控走线层的延伸方向依次排列;
所述在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层,具体包括:
在基底上沉积第一金属薄膜;
通过构图工艺形成包括多个金属线形成的镂空图案的第一金属层,所述多个金属线形成的镂空图案间隔设置,所述多个金属线形成的镂空图案沿所述触控走线层的延伸方向依次排列;
在第一金属层上沉积第一透明导电薄膜;
通过构图工艺形成透明导电层;
在透明导电层上沉积第二金属薄膜;
通过构图工艺,形成包括多个金属线形成的镂空图案的第二金属层;
所述在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层之后,所述方法还包括:
在所述触控走线层上涂覆绝缘薄膜;
通过刻蚀处理形成绝缘层;
所述通过刻蚀处理形成绝缘层之后,所述方法还包括:
在绝缘层上形成过孔;
所述在绝缘层上形成过孔之后,所述方法还包括:
在绝缘层上沉积第二透明导电薄膜;
通过构图工艺形成触控层;
所述绝缘层的材料为负性光刻胶,所述触控层的材料为氧化铟锡。
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