[发明专利]一种含硫杂环衍生物及其有机发光器件在审
申请号: | 201710957167.0 | 申请日: | 2017-10-16 |
公开(公告)号: | CN107556326A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 蔡辉;王雪 | 申请(专利权)人: | 长春海谱润斯科技有限公司 |
主分类号: | C07D495/20 | 分类号: | C07D495/20;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 130000 吉林省长春市北湖科技*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 含硫杂环 衍生物 及其 有机 发光 器件 | ||
1.一种含硫杂环衍生物,其特征在于,其分子结构通式如下式(Ⅰ)所示:
其中:R1~R2可独立地选自氢原子、氰基、取代或未取代的C1~C20的烷基、取代或未取代的C1~C10的烷氧基、取代或未取代的C6~C60芳基、取代或未取代的C10~C60稠环基、或取代或未取代的C5~C60杂环基。
2.根据权利要求1所述的一种含硫杂环衍生物,其特征在于,R1、R2独立的选自取代或未取代的C6~C30芳基、取代或未取代的C10~C30稠环基、或取代或未取代的C5~C30杂环基。
3.根据权利要求1所述的一种含硫杂环衍生物,其特征在于,R1、R2独立的选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的萘基、取代或未取代的蒽基、取代或未取代的芘基、取代或未取代的三亚苯基、取代或未取代的芴基、取代或未取代的咔唑基、取代或未取代的二苯并呋喃基、取代或未取代的二苯并噻吩基、取代或未取代的苯并嘧啶基、取代或未取代的苯并吡啶基中的一种。
4.根据权利要求1所述的一种含硫杂环衍生物,其特征在于,选自如下所示化学结构中的任意一种:
。
5.一种有机发光器件,包括第一电极、第二电极和置于所述两电极之间的一个或多个有机化合物层,其特征在于,有机化合物层中至少一层包含至少一种如权利要求1-4任意一项中所述的含硫杂环衍生物。
6.根据权利要求5所述的有机发光器件,其特征在于,所述有机化合物层包含空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层中的至少一层。
7.根据权利要求5所述的有机发光器件,其特征在于,所述含硫杂环衍生物在有机发光器件中用作发光层主体材料。
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